一、設(shè)備用途
真空磁懸浮熔煉方法，是近些年來飛速發(fā)展的一種熔煉方法，主要用來制取高熔點(diǎn)、高純度和極活潑的金屬，在冶金和特殊材料制備等許多重要領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用，顯示出良好的應(yīng)用前景。
二、設(shè)備特點(diǎn)
1·真空磁懸浮熔煉，料與坩堝無接觸冶煉，干凈無污染。
2·冶煉溫度高，溫度可達(dá)2500甚至以上，專門應(yīng)用于高熔點(diǎn)難熔金屬，活潑金屬等冶煉提純。
3·采用磁懸浮專用IGBT電源，配合自助研發(fā)的水冷分瓣銅坩堝，懸浮效果好。
4·采用兩級分子泵控制系統(tǒng)真空度高，可達(dá)5.0*10-4pa。
三、實(shí)驗(yàn)室鈦合金冶煉測試爐 真空磁懸浮熔煉爐主要技術(shù)參數(shù)
1、額定功率：60Kw
2、容量（以鐵計）：0.25Kg
3、輸入電源：3 相、 380 ± 10 ％、 50Hz
4、冷態(tài)極限真空度：6.67×10E-4Pa
四.實(shí)驗(yàn)室鈦合金冶煉測試爐 真空磁懸浮熔煉爐主要技術(shù)參數(shù)
1.額定功率：65Kw
2.容量（以鐵計）：0.5Kg
3.輸入電源：3 相、 380 ± 10 ％、 50Hz
4.冷態(tài)極限真空度：6.67×10E-4Pa
5.坩堝尺寸：D80*50
四、懸浮爐設(shè)備組成
真空磁懸浮熔煉爐主要由“高真空腔體”，“抽真空系統(tǒng)”，“熔煉系統(tǒng)及旋轉(zhuǎn)澆鑄系統(tǒng)”，“水冷銅坩堝”“電控系統(tǒng)”，“水冷系統(tǒng)”，“工作臺架及附件系統(tǒng)”等部分組成。現(xiàn)分別作出以下詳細(xì)說明：
高真空腔體
分為爐體、爐蓋兩大部分組成
1.1爐體選用304不銹鋼材料制造，由法蘭和雙層圓筒組成，采用氬弧焊焊接，表面噴砂電解拋光處理，采用雙層水冷結(jié)構(gòu)，保證爐殼溫度不超過40℃。
1.2 爐蓋采用上開門結(jié)構(gòu)，帶有鎖緊裝置，并在爐蓋上設(shè)有可以觀察爐內(nèi)熔煉情況的觀察孔和紅外測溫孔。由于溶液在高溫時會灼傷眼睛，我們還專門設(shè)計有保護(hù)眼睛的濾光裝置；
1.3 爐體上設(shè)有抽真空接口、進(jìn)電進(jìn)水接口、充保護(hù)氣氛接口等；
2. 抽真空系統(tǒng)
2.1我們經(jīng)過計算腔體體積大小，選用飛越雙級VRD-24直聯(lián)泵作為前級泵，壹臺K-150擴(kuò)散泵作為主泵，設(shè)備的冷態(tài)極限真空度優(yōu)于5×10-3Pa；
2.2 我們選用成都睿寶真空科技的ZDF-5227復(fù)合真空計來測量，測量量程為1.0×105 Pa~1.0×10-6 Pa，滿足測量要求；
2.4 在真空機(jī)組與爐體之間裝有高真空擋板閥和充氣放氣閥，可獲得惰性氣氛熔煉環(huán)境。
3. 熔煉系統(tǒng)及旋轉(zhuǎn)澆鑄系統(tǒng)
3.1磁懸浮熔煉溫度0~2100℃；我們選用45Kw磁懸浮專用IGBT電源，經(jīng)過跟感應(yīng)線圈、水冷銅坩堝合理匹配；實(shí)現(xiàn)懸浮熔煉的目的。
水冷銅坩堝
水冷銅坩堝采用分瓣水冷個坩堝，水冷和坩堝底座連接，集中供水，各接頭采用密水密真空設(shè)計。
4．電控系統(tǒng)
4.1電控系統(tǒng)設(shè)計有總控電源，為機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、真空計、電源、紅外測溫裝置等提供電源，設(shè)計有斷電斷水保護(hù)功能。
4.2電控系統(tǒng)所涉及的開關(guān)及顯示儀表全都集成在一個控制面板上，包括：總控電源開關(guān)，真空泵機(jī)組的啟動、停止按鈕及真空度顯示儀表，電源的功率調(diào)節(jié)旋紐及電流、電壓、功率顯示儀表，熔煉溫度顯示儀表等。
5．水冷集成管路
水冷集成管路主要由閥門、管道、壓力表等相關(guān)裝置組成，具備斷水報警、自動切斷加熱電源功能。
6．設(shè)備臺架及附件系統(tǒng)
6.1 設(shè)備臺架設(shè)計成由型鋼、鋼材組焊而成，具備方便固定和移動的腳輪，臺架表面采用304不銹鋼蒙皮裝飾。
6.2 爐體、抽真空系統(tǒng)系統(tǒng)、電控系統(tǒng)和水冷集成管路等組成部分都安裝在設(shè)備臺架上，使整個設(shè)備成為一體。
