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德國Heidelberg 刻蝕機 機器視覺

參考價 100000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱赫爾納貿(mào)易(大連)有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號DWL 2000 G
  • 所  在  地大連市
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
  • 更新時間2023/7/23 22:05:50
  • 訪問次數(shù)2931
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德國赫爾納貿(mào)易公司,是一個立足德國專注于亞洲,尤其是中國和東南亞市場,經(jīng)營德國高品質(zhì)工業(yè)品的性技術(shù)服務(wù)以及貿(mào)易供應(yīng)商。本著將歐洲的產(chǎn)品和技術(shù)帶到中國的理念,我們始終關(guān)注的自動化產(chǎn)品的發(fā)展方向,我們的技術(shù)團隊會將這些產(chǎn)品充分理解,介紹到中國來。德國赫爾納貿(mào)易公司已經(jīng)是中德工業(yè)品互動*的一員。

赫爾納貿(mào)易(大連)有限公司是德國赫爾納貿(mào)易公司在大連設(shè)立的全資德資企業(yè),立足于有效方便的服務(wù)于中國工業(yè)客戶。我們在中國的8個省市設(shè)有銷售和服務(wù)辦事處,他們是北京,上海,成都,廣州,沈陽,長春,南京,總部大連。赫爾納貿(mào)易(大連)有限公司將為德國赫爾納貿(mào)易公司有效的服務(wù)中國客戶,做出自己的貢獻。




閥門,泵,液壓氣動,,儀器儀表,,電子電氣,,通用零部件,實驗室儀器
加工定制 應(yīng)用領(lǐng)域 蝕刻
質(zhì)保 3年 重量 500kg
自動化程度 組成部分 多部分
德國Heidelberg 刻蝕機DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速靈活的高分辨率圖案生成器。它們針對工業(yè)級灰度光刻進行了優(yōu)化,專為集成電路、MEMS、微光學(xué)和微流體設(shè)備、傳感器、全息圖以及**特征的掩模和晶圓的高通量圖案化而設(shè)計。
德國Heidelberg 刻蝕機 機器視覺 產(chǎn)品信息

標(biāo)題:供應(yīng)德國Heidelberg Instruments刻蝕機 DWL 2000 GS系列

 

德國Heidelberg Instruments刻蝕機公司介紹:

德國Heidelberg 刻蝕機海德堡儀器是設(shè)計、開發(fā)和制造高精度激光光刻系統(tǒng)、無掩模對準(zhǔn)器和納米加工工具的世界領(lǐng)導(dǎo)*。憑借超過 35 年的經(jīng)驗和在*球安裝的 1,300 多套系統(tǒng), 海德堡儀器 提供專門定制的光刻解決方案,以滿足我們**客戶的微加工和納米加工要求 - 無論多么具有挑戰(zhàn)性。在我們位于德國、瑞士和中國的過程和應(yīng)用實驗室 (PAL) 中,工程師們對我們的客戶進行培訓(xùn)并與他們密切合作,以充分利用他們的海德堡儀器設(shè)備。 行業(yè)利益相關(guān)者,以及世界各地最的大學(xué)和研究機構(gòu)的工作組,都使用海德堡儀器的系統(tǒng)進行的微米和納米圖案化。應(yīng)用領(lǐng)域包括微光學(xué)和微系統(tǒng)技術(shù)、光子學(xué)、電子學(xué)、半導(dǎo)體/封裝、量子計算、MEMS/NEMS、微機械學(xué)、生物醫(yī)學(xué)工程、二維材料、物聯(lián)網(wǎng)等等。 

 

Heidelberg Instruments刻蝕機介紹:

德國Heidelberg 刻蝕機DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速靈活的高分辨率圖案生成器。它們針對工業(yè)級灰度光刻進行了優(yōu)化,專為集成電路、MEMS、微光學(xué)和微流體設(shè)備、傳感器、全息圖以及**特征的掩模和晶圓的高通量圖案化而設(shè)計。專業(yè)灰度光刻模式可以在大面積厚光刻膠中形成復(fù)雜的 2.5D 結(jié)構(gòu)圖案。DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 系統(tǒng)具有 500 nm 的最小特征尺寸、高達 400 x 400 mm 2的寫入?yún)^(qū)域和可選的自動加載系統(tǒng),特別適用于用于電信、照明的晶圓級微光學(xué)器件和工業(yè)顯示器制造,以及生命科學(xué)中的設(shè)備制造。

Heidelberg Instruments刻蝕機功能參數(shù)特點:

2  曝光質(zhì)量

2  CD 均勻性 60 nm;邊緣粗糙度 40 納米;對準(zhǔn)精度 60 nm;第二層對準(zhǔn) 250 nm;自動對焦補償 80 µm

2  灰度光刻

2  1000級灰度;專用 GenISys BEAMER 軟件,用于優(yōu)化復(fù)雜幾何形狀的曝光

2  溫控流動箱

2  溫度穩(wěn)定性 ± 0.1°,ISO 4 環(huán)境

2  *速度

2  灰度模式下 200 x 200 mm 2 的面積<60 分鐘

2  基板尺寸大

2  高達 20 / 40 厘米

 

Heidelberg Instruments刻蝕機應(yīng)用:

2  微光學(xué)

2  材料科學(xué)

2  微流體等

 

Heidelberg Instruments刻蝕機主要型號:

2  DWL 2000 GS 系列

2  DWL 4000 GS 系列

 


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