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PDMS芯片制作系統(tǒng)

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱世聯(lián)博研(北京)科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質經銷商
  • 更新時間2023/7/27 22:25:02
  • 訪問次數(shù)302
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世聯(lián)博研(北京)科技有限公司(Bio Excellence International Tech Co.,Ltd)簡稱為世聯(lián)博研。世聯(lián)博研是一家集進口科研儀器代理銷售以及實驗技術服務于一體的高新技術公司。世聯(lián)博研專注生物力學和3D生物打印前沿科研設備代理銷售及科研實驗項目合作服務,內容涵蓋了血管力學生物學、生物力學建模仿真與應用、細胞分子生物力學、組織修復生物力學、骨與關節(jié)生物力學、口腔力學生物學、眼耳鼻咽喉生物力學、康復工程生物力學、生物材料力學與仿生學、人體運動生物力學等生物力學研究以及生物材料打印、打印樣品生物力學性能測試分析的前沿領域科研利器和科研服務。


儀器儀表
PDMS芯片制作系統(tǒng)
PDMS芯片制作系統(tǒng) 產品信息
產品名稱:法國Black Hole Lab一站式微流控SU8模具臺式工作站(法國Black Hole Lab一站式微流控PDMS芯片復制加工工作站)-歡迎咨詢品牌:black hole lab貨號:PDMS Chip Station價格:詢價:王經理電話:

法國Black Hole Lab一站式微流控SU8模具臺式工作站


SU-8光刻臺式工作站涵蓋您在實驗室加工微流體模具所需要的一切組件,即使沒有超凈間,憑借該工作站,您也可以加工出來具有與超凈間相同的分辨率的模具。SU-8模具工作站可以縮短芯片加工的總時間。

SU-8模具加工站是一個交鑰匙的產品,wu需購買任何其他設備。基本上僅需要一個化學通風廚和少量的工作空間。我們也可以根據您實驗室內現(xiàn)有的設備來調整報價。

優(yōu)勢&特點:

(1)為易用性設計,達到與超凈室相同的圖案分辨率
(2)易于通過面板或PC進行操作編程
(3)能夠設置多種加速度和速度的復雜序列
(4)wu堵塞,延長使用壽命
(5)低振動,轉速高達12000 rpm
(6)提供晶圓對中工具
(7)即使沒有微流控加工的初
步知識,也可以熟練的加工模具
 

包含的工作組件:
(1)可編程旋涂機
(2)可編程數(shù)碼電熱板
(3)可編程UV燈系統(tǒng)

包括化學藥品(SU-8,SU-8顯影液、Omnicoat、異丙醇、丙酮等)和實驗室配件(微量移液槍、計時器、玻璃器皿、封口膜、鑷子、金剛石刮板、硅片、玻璃載玻片、一次性杯子、攪拌棒、等),以便為您提供完整的套件。 


可編程旋涂機:適用于軟光刻應用的設備

該旋涂機結構緊湊,并且具有可編程功能。
它適用于直徑?150 mm的晶圓和5” × 5”(127 mm × 127 mm)的基板。
此旋涂機經過微調,可加工可控和可重復的SU-8光致抗蝕劑層。

其緊湊的尺寸和附加的小控制面板使該設備實現(xiàn)真正的移動。該旋涂機已廣泛應用于SU-8光刻膠涂層。蓋子上的孔可以進行動態(tài)SU-8涂覆。通過藍牙輕松連接到您的PC,您可以保存并命名您的實驗配方。

主要優(yōu)勢:
(1)為易用性設計
(2)易于通過操作面板或PC進行編程
(3)能夠設置多種加速度和速度的復雜序列
(4)wu堵塞,延長使用壽命
(5)低振動
(6)轉速高達12000 rpm
(7)提供晶圓對中工具


可編程數(shù)碼電熱板:適用于軟光刻應用的設備

確保準確、均勻且穩(wěn)定的溫度設定點。該數(shù)字式熱板設備可設置溫度斜坡以進行加熱和冷卻。通過可編程控件使您的生活更加輕松,這些控件可以實現(xiàn)光刻過程的自動化。

可編程熱板的頂板和很大的加熱表面積使它具有足夠寬的區(qū)域,溫度均勻,可以在4英寸的晶片上有效地烘烤SU-8光刻膠。溫度斜坡使得能夠減小光致抗蝕劑層內部的機械應力??删幊坦ぞ呖蛇M行長時間的光刻膠烘烤,而wu需停留在設備的面。

主要優(yōu)勢:
(1)加熱和冷卻的溫度斜坡曲線
(2)4英寸晶圓的高溫均勻性
(3)微處理器顯示屏保持溫度恒定
(4)小溫度超調
(5)自動計時器
(6)光滑的鋁板,易于清潔光刻膠


可編程UV燈系統(tǒng):適用于軟光刻應用的設備

du特的UV LED曝光和遮罩系統(tǒng)(可選),具有365 nm或者385 nm波長的可用光源。這是一種非常緊湊的臺式系統(tǒng),能夠對直徑大為4英寸的晶圓表面積進行曝光。該自動UV曝光系統(tǒng)與硬(物理)或軟(接近)掩膜觸點兼容,并具有可變的掩膜到基板距離的控制功能。

該UV曝光系統(tǒng)具有2μm的分辨率,特別適合軟光刻應用。閃光曝光可以減少光刻膠的內部機械應力。其體積小巧,可將其安裝在所需的任何位置,尤其是在潔凈室之外。

主要優(yōu)勢:
(1)晶圓表面上方的wan美單色曝光(帶寬低于10 nm)
(2)冷紫外線
(3)光線發(fā)散角<2°
(4)強大的功率密度
(5)LED使用壽命長:超過1萬小時,相當于8-10年的使用時間
(6)用戶友好的觸摸屏界面,可進行曝光周期編程
(7)wu需預熱時間
(8)直觀的UV光源強度控制
(9)自動化晶圓加載和卸載系統(tǒng)
(10)可與玻璃和塑料光罩一起使用
(11)在4英寸晶圓上具有很高的紫外線均勻度
(12)集成紫外線儀表


更多內容:
自動匹配您實驗室現(xiàn)有設備的報價!
由于每個實驗室都是不同的,因此,每個研究都是du特的,所以我們會根據實際需求盡可能地調整報價。我們與您一起討論什么是效率高的設備,從而增加或刪除設備、配件、化學品等等。


 
微流控芯片PDMS加工實驗室空間方案圖




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