ECLIPSE 顯微鏡機身采用模塊化制造，可滿足多領域的工業(yè)應用，其中包括半導體器件、封裝、FPD、電子器件、材料和精密模具制造等。ECLIPSE LV 系列經過不斷的發(fā)展完善并配備了新的光學系統(tǒng)和功能，可根據觀察方法和目的 選擇支架裝置和照明裝置以滿足多種觀察需求。用戶可選擇使用電動和手動操控模式以及反射照明專用模式和反射／透射組合照明模式以滿足任何應用需求。

特點：
CFI60-2 經過改進的光學性能
以的高數(shù)值孔徑和長工作距離設計理念而著稱的尼康 CFI60 光學系統(tǒng)。
經過進一步改進，具有的長工作距離、色差校正性能和更輕的重量。
輕松的操作 與數(shù)碼相機集成

現(xiàn)可使用數(shù)碼控制裝置來檢測包括物鏡信息在內的顯微鏡信息，以及對顯微鏡進行電動操作，以更高效地進行觀察和圖像拍攝。

觀察方法
可支持多種觀察方法：明場、暗場、偏光、微分干涉、落射熒光和雙光束干涉測量觀察功能。此外，LV100DA和LV100DA-U還可提供透射型微分干涉、暗場、偏光和相襯觀察功能。

半導體（IC晶片）

從物鏡到照明系統(tǒng)，LV-N系列采取了的防眩光措施，確保生成明亮、高對比度的圖像。

采用尼康設計理念開發(fā)的物鏡暗場照明系統(tǒng)可實現(xiàn)明亮的暗場觀察，從而可對標本差異和缺陷進行高靈敏度的檢測。

基板（焊點）

LV-N系列在觀察有機EL或安裝的基板等具有熒光性質的標本時表現(xiàn)出了的性能。

礦物質

LV-N系列十分適合觀察具有雙折射性質的標本，例如：容易失真的液晶或塑料/玻璃等。

云母

LV-N系列可使用Michelson(TI)和Mirau(DI)反射型雙光束干涉測量法。當配合使用測微計目鏡時，可在不接觸標本的情況下檢測和測量標本的細微差異。

LCD（彩色濾光片）

LV-N系列十分適合觀察透明標本，例如：光學器件、FPD和載玻片標本。當配合使用C-SP簡易起偏器和檢偏器時，可進行透射型簡易偏光觀察。

感光乳劑

可通過明/暗對比和利用衍射和干涉兩種光線屬性來顯現(xiàn)無色、透明的標本。

納米粒子（銀）

可利用偏光使兩束光之間產生干涉以在三維空間中觀察無色、透明的標本。

LV100DA