主要特點(diǎn)：

• 大抽速真空系統(tǒng)，即插即用快捷方便；
• 最多5個獨(dú)立磁控濺射靶位可輕松切換功能，快速制作多層金屬和反應(yīng)介質(zhì)膜；
• 預(yù)設(shè)參數(shù)全自動進(jìn)料和鍍膜沉積無需人工干預(yù)；
• 自動樣品裝載系統(tǒng)減少污染和無效參雜并提高鍍膜效率。
• 配備直流和射頻源，可實(shí)現(xiàn)多種膜層工藝要求。
• 選配離子束輔助沉積系統(tǒng)，提高膜層致密性和附著力。

應(yīng)用領(lǐng)域：

• 金屬和介電膜
• 薄膜傳感器的制造
• 光學(xué)元件
• 納米與微電子
• 太陽能電池

主要功能配置說明：

• Φ500mm*450mm(h)圓形不銹鋼腔室。
• 700L/s渦輪分子泵+雙級旋片泵真空泵組。
• 全量程復(fù)合真空計(jì)，自動控制不同工藝壓力。
• 電動壓控插板閥全程壓力自動控制。
• 3英寸濺射靶，可同時濺射多種材料。
• 配準(zhǔn)備DC電源和RF電源更利于濺射多種金屬和介質(zhì)膜層。
• 3路MFC精密氣體流量控制系統(tǒng)，便于鍍制多種反應(yīng)膜層。
• 石英晶體監(jiān)測系統(tǒng)可實(shí)時監(jiān)控多層鍍膜厚度和工藝過程。
• 斜拉伸縮式觸控屏可預(yù)設(shè)控制沉積過程和快速數(shù)據(jù)輸入。
• 自動進(jìn)料系統(tǒng)更便于預(yù)制樣品和過程控制。
• 一鍵式全自動鍍膜系統(tǒng)，無需人工干預(yù)，便于過程控制。
• 精密溫控系統(tǒng)和基片前后加熱裝置可精確控制控基片＞800°C。
• 伸縮式基片掛架，可輕松調(diào)節(jié)濺射距離和切換公自轉(zhuǎn)模式。
• 自動腔體外包圍環(huán)繞冷卻系統(tǒng)，避免高溫鍍膜時腔室壁溫度過高。

• 更多PVD系統(tǒng)工藝說明可查閱本站點(diǎn)解決方案目錄：/jjfa

鑫鐳真空專業(yè)為科研項(xiàng)目和企業(yè)制作用于薄膜材料實(shí)驗(yàn)的小型多靶濺射PVD系統(tǒng)，提供各種真空鍍膜工藝設(shè)備搭配定制、鍍膜機(jī)機(jī)的全系統(tǒng)整合、升級和專用系統(tǒng)定制以及真空設(shè)備整機(jī)維修、安裝等服務(wù)。質(zhì)量可靠，提供多個案列參考。