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環(huán)保APP正式上線

Plasma 2000 ICP光譜儀

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱鋼研納克檢測技術(shù)股份有限公司
  • 品       牌
  • 型       號Plasma2000
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間2023/8/24 14:24:23
  • 訪問次數(shù)318
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 鋼研納克檢測技術(shù)股份有限公司(代碼:300797)是企業(yè)中國鋼研科技集團(tuán)有限公司(鋼鐵研究總院)的二級單位,專業(yè)從事分析儀器裝備和分析檢測技術(shù)的研究、開發(fā)和應(yīng)用的*創(chuàng)新型企業(yè)。目前公司提供的主要服務(wù)或產(chǎn)品包括分析檢測儀器、第三方檢測服務(wù)、標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)/標(biāo)準(zhǔn)樣品、能力驗(yàn)證服務(wù)等檢測相關(guān)產(chǎn)品與延伸服務(wù)。鋼研納克不僅是中國分析儀器設(shè)備制造的企業(yè),也是國內(nèi)元素檢測領(lǐng)域儀器種類、綜合實(shí)力的儀器裝備和分析測試技術(shù)的研究機(jī)構(gòu)之一。依托國家鋼鐵材料測試中心和儀器產(chǎn)業(yè)基地,公司及子公司牽頭制修訂7項(xiàng)國際標(biāo)準(zhǔn)、參與制修訂國際標(biāo)準(zhǔn)20余項(xiàng)、制定170余項(xiàng)國家及行業(yè)標(biāo)準(zhǔn);研制家級標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)/標(biāo)準(zhǔn)樣品300多種。力爭成為測試儀器裝備領(lǐng)域有影響力的國際競爭參與者、成為具有國際影響力的材料表征評價(jià)認(rèn)證的機(jī)構(gòu)和綜合解決方案的提供者。鋼研納克分析儀器產(chǎn)品主要包含:直讀光譜儀、碳硫分析儀、氧氮?dú)浞治鰞x、ICP光譜儀、ICP-MS、土壤重金屬檢測儀、食品重金屬檢測儀、波長色散X射線熒光光譜儀、金屬原位分析儀、脈沖熔融-飛行時(shí)間質(zhì)譜儀、試驗(yàn)機(jī)、環(huán)保監(jiān)測設(shè)備等技術(shù)水平*的檢測裝備,其中多款儀器國內(nèi)外空白(屬臺套)。產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定,檢測數(shù)據(jù)可靠,累計(jì)排名國內(nèi),部分產(chǎn)品成為同類產(chǎn)品的業(yè)界,牽頭制定了相關(guān)儀器和檢測標(biāo)準(zhǔn)。 鋼研納克分析儀器發(fā)展歷程1952年 鋼研納克起源于建國初期成立的鋼鐵研究總院1956年 鋼鐵研究總院測試所儀器組成立,鋼研納克儀器產(chǎn)業(yè)起步1977年 鋼研納克研發(fā)了一臺真空熔融氣體分析儀1991年 一臺脈沖紅外定氧儀在這里誕生,儀器產(chǎn)業(yè)化發(fā)展正式起步2001年 注冊成立“北京納克分析儀器有限公司”,儀器板塊進(jìn)入快速發(fā)展軌道2003年 牽頭“十五”國家科技攻關(guān)計(jì)劃重大項(xiàng)目《科學(xué)儀器研制與開發(fā)》2006年 鋼研納克推出高品質(zhì)國產(chǎn)火花直讀光譜儀,打破國外近半個(gè)世紀(jì)的壟斷2009年 鋼研納克單掃描ICP光譜儀實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),ICP產(chǎn)品進(jìn)入產(chǎn)業(yè)化發(fā)展階段2011年 牽頭承擔(dān)國家重大科學(xué)儀器專項(xiàng)《ICP痕量分析儀器的研制》2014年 直讀光譜儀(Labspark1000)榮獲首屆“國產(chǎn)好儀器”稱號2014年 氧氮?dú)浞治鰞x(ONH-3000)、碳硫分析儀(CS-3000G)榮獲“國產(chǎn)好儀器”稱號2015年 電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(PlasmaMS 300)獲得國產(chǎn)儀器獎(jiǎng)BCEIA金獎(jiǎng)2015年 食品重金屬檢測儀(NX-100F)獲得國產(chǎn)儀器獎(jiǎng)BCEIA金獎(jiǎng)2017年 直讀光譜儀(SparkCCD 6000)獲得國產(chǎn)儀器獎(jiǎng)BCEIA金獎(jiǎng)2019年 ICP光譜儀(Plasma 3000)獲得國產(chǎn)儀器獎(jiǎng)BCEIA金獎(jiǎng)
直讀光譜儀、碳硫分析儀、氧氮?dú)浞治鰞x、ICP光譜儀、ICP-MS、土壤重金屬檢測儀、食品重金屬檢測儀、波長色散X射線熒光光譜儀、金屬原位分析儀、脈沖熔融-飛行時(shí)間質(zhì)譜儀、試驗(yàn)機(jī)、環(huán)保監(jiān)測設(shè)備
Plasma 2000 ICP光譜儀
Plasma 2000 ICP光譜儀 產(chǎn)品信息

穩(wěn)健高效的全固態(tài)光源

    全固態(tài)射頻發(fā)生器,體積小、效率高,全自動(dòng)負(fù)載匹配,速度快、精度高,能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性有機(jī)溶劑的測試,具有優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

    垂直炬管的設(shè)計(jì),具有更好的樣品耐受性,減少了清潔需求,降低了備用炬管的消耗。

    簡潔的炬管安裝定位設(shè)計(jì),快速定位,精確的位置重現(xiàn)。 

    實(shí)時(shí)監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù),高性能CAN工業(yè)現(xiàn)場總線,保障通訊高效可靠。

 

精密的光學(xué)系統(tǒng)

中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),使用超純SiO2棱鏡,高光路傳輸效率,保證了深紫外區(qū)的元素測量。

    優(yōu)化的光學(xué)設(shè)計(jì),采用非球面光學(xué)元件,改善成像質(zhì)量,提高光譜采集效率。

光室多點(diǎn)充氣技術(shù),縮短光室充氣時(shí)間,提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性,開機(jī)即可測量。

光室氣路獨(dú)立,可充氮?dú)饣驓鍤狻?/span>

      包圍式立體控溫系統(tǒng),保障光學(xué)系統(tǒng)長期穩(wěn)定無漂移。

 

進(jìn)樣系統(tǒng)

儀器配備系列經(jīng)過優(yōu)化的進(jìn)樣系統(tǒng),可用于有機(jī)溶劑、高鹽/復(fù)雜基體樣品、含氫氟酸等樣品的測試。

使用一體式炬管,易于維護(hù),轉(zhuǎn)換快速,使用成本低。

使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量,流量連續(xù)可調(diào),保障測試性能長期穩(wěn)定。

4通道12滾輪蠕動(dòng)泵,泵速連續(xù)可調(diào),確保樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性。

   

檢測器

大面積背照式CCD檢測器, 全譜段響應(yīng),高紫外量子化效率,抗飽和溢出

具有極寬的動(dòng)態(tài)范圍和極快的信號處理速度

一次曝光,完成全譜光譜信號的采集讀取,獲得更為快速、準(zhǔn)確的分析結(jié)果

同類產(chǎn)品中靶面尺寸,百萬級像素,單像素面積24μm X 24μm

三級半導(dǎo)體制冷,制冷溫度低于-35,具有更低的噪聲和更好的穩(wěn)定性


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