甲岸科技等離子刻蝕機(jī) 150L
甲岸科技等離子刻蝕機(jī)對進(jìn)行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕,實(shí)現(xiàn)各項(xiàng)異性刻蝕,確保細(xì)小圖形轉(zhuǎn)移后的保真性。滿足用戶對產(chǎn)品表面處理需求。
產(chǎn)品應(yīng)用
1、適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進(jìn)行等離子體活化、刻蝕、清洗、鍍膜。
產(chǎn)品特點(diǎn)
- 操作簡單、易維護(hù)。
- 引進(jìn)德國核心等離子技術(shù),質(zhì)量有保障。
- 進(jìn)口針閥精密流量控制計,精度高。
- 材質(zhì)耐腐蝕,環(huán)保不產(chǎn)生金屬污染。
- 多路工藝反應(yīng)氣體通道,保證產(chǎn)品清洗效果。
- 可以根據(jù)客戶需求定制
型 號 | AP-E150 | ||
等離子源系統(tǒng) | 頻 率 | 13.56MHz 射頻 | |
功 率 | 0~500W 可調(diào) | ||
真空系統(tǒng) | 真空腔體 | 材質(zhì) | 石英、航空鋁(選配) |
腔體內(nèi)部尺寸(MM) | 360*800*650 | ||
腔體容積 | 150L | ||
極板 | 4層 | ||
密封性 | 級焊接密封 | ||
泵 | 真空泵 | 干泵 | |
真空管路 | 不銹鋼管、不銹鋼波紋管 | ||
真空計 | 薄膜硅 | ||
氣體流量計 | <±1% FS | ||
氣路控制 | 2路處理氣體氣路,氣體流量可調(diào) | ||
極限真空 | 3Pa | ||
適用氣體 | 流量范圍 | 0-500SCCM(可調(diào)) | |
工藝氣體 | Ar、N?O?、H?等等(可選) | ||
控制系統(tǒng) | 1、PLC 自動控制; | ||
2、7寸觸摸屏,圖形用戶界面; | |||
3、配方程序?yàn)?nbsp;0~99; | |||
4、多級權(quán)限操作; | |||
5、圖形化曲線圖自動監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài)及錯誤信息; | |||
6、存儲工藝數(shù)據(jù)及錯誤信息; | |||
7、報警信息提示及追溯; | |||
8、圖形化界面檢測處理參數(shù); | |||
9、自動、手動操作可切換; | |||
10、維護(hù)提示緊急停止按鈕; | |||
11、門感應(yīng)器和真空互鎖; | |||
12、機(jī)器運(yùn)行信號指示; | |||
13、機(jī)器運(yùn)行結(jié)束提示; | |||
外觀參數(shù) | 外形尺寸(MM) | 1020*1700*1050(寬高深) | |
重 量 | 800KG | ||
設(shè)施配置 | 電 力 | 五線,三相制AC380V ,50-60Hz。所有配線符合《低壓配電設(shè)計規(guī)范 GB50054-95》、《低壓配電裝置及線路設(shè)計規(guī)范》等國標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)相關(guān)規(guī)定。 | |
壓縮空氣 | 干燥壓縮空氣CDA。 | ||
其 它 | 提供操作手冊、維護(hù)手冊、安裝手冊,易損件備件清單。 |