- 旋轉(zhuǎn)陰極裝置與行內(nèi)普通平面靶裝置相比靶材使用周期與利用效率顯著提高。
- 可客制化的基板工件架結(jié)構(gòu)定制,給客戶產(chǎn)品擺放達(dá)到的利用空間。
- 高效率真空泵組配比與精密的腔體結(jié)構(gòu)使我司抽氣效率達(dá)到行業(yè)水平。
- 匯成RF離子源具有工作范圍廣能量均衡,高離化率,超穩(wěn)定工作效率,低耗能等特點(diǎn)。
- 可生產(chǎn)高折射率氮化薄膜,提高薄膜硬度性能。
- 低溫成膜,可應(yīng)對各種用途。
- 可依靠負(fù)載鎖定裝置保持穩(wěn)定的成膜品質(zhì)。
- 利用自動濺射控制裝置,使濺射工藝實(shí)現(xiàn)了自動化。
- 可選“校正板外部調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)”。
AR、AF、硬質(zhì)AR膜、硬質(zhì)膜、裝飾膜、HR膜等。