●致力于電真空、核級裝備、人工晶體材料及薄膜制備設(shè)備的技術(shù)提升,在服務(wù)領(lǐng)域深耕細(xì)作,具有較深的技術(shù)沉積。
●成都真空設(shè)備廠家 surpass大口徑干法刻蝕機(jī)裝備 大口徑 高均勻性特殊微納結(jié)構(gòu) 基片刻蝕 可定制
●Surpass系列 干法刻蝕機(jī),特別適合于大口徑、高均勻性和有特殊微納結(jié)構(gòu)的基片刻蝕,刻蝕尺寸可達(dá)φ2500mm,通過高密度等離子體及離子濃度修正系統(tǒng),可達(dá)到基片有效刻蝕區(qū)域內(nèi)均勻性較高的技術(shù)指標(biāo),滿足大口徑基片刻蝕的需求。
●說明:根據(jù)用戶要求,公司愿與客戶聯(lián)合研發(fā),共享知識產(chǎn)權(quán),公司致力于工藝與設(shè)備匹配。