產(chǎn)品類型：能量色散X熒光光譜分析儀
產(chǎn)品名稱：光譜分析儀
產(chǎn)品型號(hào)：XAD
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：
XAD是一款全元素上照式熒光光譜儀，可測(cè)量納米級(jí)厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚，可選配自動(dòng)平臺(tái)實(shí)現(xiàn)XYZ軸編程位移，實(shí)現(xiàn)無人值守多點(diǎn)測(cè)量，測(cè)量軟件置入*的EFP算法及解譜技術(shù)，解決了諸多業(yè)界難題。
被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。
1）搭載微聚焦加強(qiáng)型X射線發(fā)生器和*的光路轉(zhuǎn)換聚焦系統(tǒng)，最小測(cè)量面積達(dá)0.03mm2
2）擁有無損變焦檢測(cè)技術(shù)，手動(dòng)變焦功能，可對(duì)各種異形凹槽件進(jìn)行無損檢測(cè)，凹槽深度范圍0-90mm
3）核心EFP算法，可對(duì)多層多元素，包括同種元素在不同層都可快、準(zhǔn)、穩(wěn)的做出數(shù)據(jù)分析（釹鐵硼磁鐵上Ni/Cu/Ni/FeNdB，精準(zhǔn)檢測(cè)層Ni和第三層Ni的厚度）
4）配備高精密微型移動(dòng)滑臺(tái)，可實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)位、多樣品的精準(zhǔn)位移和同時(shí)檢測(cè)
5）裝配Si-Pin半導(dǎo)體探測(cè)器，即便測(cè)量0.03mm2以下的樣品，幾秒鐘也可達(dá)到穩(wěn)定性
6）涂鍍層分析范圍：鋰Li（3）- 鈾U（92）
7）成分分析范圍：鋁Al（13）- 鈾U（92）
8）人性化封閉軟件，自動(dòng)判斷故障提示校正及操作步驟，避免誤操作
9）四準(zhǔn)直器可選，最小測(cè)量面積可達(dá)0.03mm2
10）配有微光聚集技術(shù)，最近測(cè)距光斑擴(kuò)散度小于10%
儀器配置：
1. 微聚焦加強(qiáng)型X射線管：高穩(wěn)定性X射線發(fā)生器
—鈹窗口，油絕緣，氣冷式，輻射安全電子管屏蔽
—50kV，1mA，高壓和管流設(shè)定為應(yīng)用程序提供更好的性能
—符合DIN ISO 3497、DIN 50987和ASTM B 568射線標(biāo)準(zhǔn)，如有特殊要求，也可協(xié)商定制
2. 接收器：Si-Pin半導(dǎo)體探測(cè)器（也可選配大窗口SDD探測(cè)器）
—窗口面積≥25mm2
3. 光路轉(zhuǎn)換器
—φ0.3mm（標(biāo)配），φ0.2mm，φ0.5mm和□0.1*0.3mm多準(zhǔn)直器可選
4. 定制專享高敏感鏡頭
—1/2.7”彩冊(cè)CCD高敏感可變焦鏡頭，全局快門，有效像素：1280*960，光學(xué)18-46X，數(shù)字放大20-200倍
5. 恒壓恒流快門式光閘
—擁有高壓電源緊急自鎖功能，帶給您更安全的防護(hù)
6. 移動(dòng)平臺(tái)
—手動(dòng)高精密XY移動(dòng)滑臺(tái)，移動(dòng)范圍100mm*150mm，精度0.01mm，可承重15KG
7. 全新一代高壓電源
—性能穩(wěn)定可靠，高達(dá)50W的功率實(shí)現(xiàn)更高的測(cè)試效率
8. 對(duì)流通風(fēng)式過濾風(fēng)冷
—*的散熱系統(tǒng)配備，儀器即便全天候開啟，都可保持恒溫恒效
9. 隨附標(biāo)準(zhǔn)片
—免費(fèi)提供十二元素片、五選二標(biāo)準(zhǔn)片（ Ni/Cu 2um、Ni/Fe 5um、Au/XX 0.05um、Ag/XX 0.5um、Cr/XX 0.15um）、其他規(guī)格（選配）
10. 其他配置
—電腦一套、打印機(jī)、附件箱、電鍍液測(cè)量杯（選配）
技術(shù)參數(shù)：
1. 成分分析范圍：鋁（Al）- 鈾（U）
2. 成分檢出限：5ppm
3. 涂鍍層分析范圍：鋰（Li）- 鈾（U）
4. 涂鍍層檢出限：0.005μm
5. 最小測(cè)量直徑□0.1*0.3mm（最小測(cè)量面積0.03mm2）
6. 對(duì)焦距離：0-90mm
7. 樣品腔尺寸：530mm*570mm*145mm
8. 儀器尺寸：550mm*760mm*635mm
9. 儀器重量：100KG
10. XY軸工作臺(tái)移動(dòng)范圍：100mm*150mm
11. XY軸工作臺(tái)承重：15KG
12. 多元迭代EFP核心算法（號(hào)：2017SR567637）
專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上，計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法，結(jié)合*的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)，只需要少量的標(biāo)樣來校正儀器因子，可測(cè)試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。
單涂鍍層應(yīng)用：如Ni/Fe、Ag/Cu等
多涂鍍層應(yīng)用：如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等
合金鍍層應(yīng)用：如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等
合金成分應(yīng)用：如NiP/Fe，通過EFP算法，在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時(shí)，還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。
重復(fù)鍍層應(yīng)用：不同層有相同元素，也可精準(zhǔn)測(cè)量和分析。
如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，層Ni和第三層Ni的厚度均可測(cè)量。
