介紹:
1)顯微鏡 LED曝光系統(tǒng) UTA系列,為不需使用光罩即可以完成Pattern曝光的投影式曝光設(shè)備。
2)使用金相顯微鏡和 LED 光源 DLP 光機,即可在涂布光阻的基板上進行數(shù)個微米 分辨率的曝光。
3)Pattern 形狀可以使用計算機繪圖自由制作。
4)可在一般環(huán)境操作,樣品外觀及尺寸限制小,價格比一般電子束曝光機更便宜、方便性更高,可以大幅降低研發(fā)成本。
特色:
1、使用顯微鏡和 DLP 組合之曝光系統(tǒng),可比既有系統(tǒng)擁有更具競爭性之價格。
2、軟件操作簡便,可以自由繪制曝光Pattern。
3、透過物鏡倍率選擇,調(diào)整曝光范圍大小與分辨率。
4、可以制造微米等級尺寸的 Pattern 。
使用案例:
√形成薄膜 FET 以及 Hole 效果量測用試料之電極。
√Mo 原石取出薄片,形成原石特性評估的電極。