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手動磁控濺射鍍膜機(jī)

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具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司
品牌
型號
所在地
廠商性質(zhì)其他
更新時間2023/12/27 12:13:32
訪問次數(shù)171

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公司介紹主營產(chǎn)品

公司名稱(現(xiàn)用名)：北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司公司名稱(曾用名)：北京科立方真空技術(shù)應(yīng)用有限公司北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司，原名北京科立方真空技術(shù)應(yīng)用有限公司，創(chuàng)立于2013年6月，主體經(jīng)營分為真空配件銷售、真空設(shè)備定制、淺藍(lán)納米科技三個部分，是北京從事真空產(chǎn)品設(shè)計、制造、銷售、維修、保養(yǎng)于一體的專業(yè)性的公司，公司擁有一支專業(yè)、優(yōu)秀的產(chǎn)品技術(shù)工程師和維修技術(shù)工程師，具有豐富的行業(yè)經(jīng)驗(yàn)。公司于2016年初至2017年末，陸續(xù)投入大量研發(fā)資金，針對等離子增強(qiáng)化學(xué)氣象沉積設(shè)備、原子層沉積設(shè)備和高低溫真空探針臺設(shè)備，以及附屬配件進(jìn)行了系統(tǒng)、深入的研發(fā)、改進(jìn)工作。竭盡所能滿足高校、研究所的教學(xué)、科研使用，同時減少相關(guān)進(jìn)口設(shè)備的，并力爭創(chuàng)造外匯，打出中國創(chuàng)造的! 我們的客戶遍布國內(nèi)各高校和研究院所、部分單位和電力試驗(yàn)所、各級的材料、物理、化學(xué)、納米等研究領(lǐng)域的實(shí)驗(yàn)室，期待您就是我們的下一位客戶、朋友! 您的滿意微笑是我們一直努力追求的經(jīng)營目標(biāo)! 維意真空，為您服務(wù)，唯你成就是我們的宣傳口號! 技術(shù)創(chuàng)新、業(yè)務(wù)專業(yè)、服務(wù)誠信是我們一直遵循的經(jīng)營理念! 我們熱誠歡迎的儀器制造商及科學(xué)工作者與我們聯(lián)系開展各層面的合作,打造成的真空系統(tǒng)產(chǎn)品、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備、原子層沉積設(shè)備和高低溫真空探針臺設(shè)備供應(yīng)商。

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鍍膜機(jī)

產(chǎn)品簡介在線詢價

此款手動磁控濺射鍍膜機(jī)具備以下幾個優(yōu)點(diǎn)：　　1、目前高校包括研究所的實(shí)驗(yàn)室面積都比較緊張，所以此款小型磁控濺射鍍膜機(jī)緊湊的設(shè)計更為合適;　　2、配置3個3英寸可調(diào)節(jié)高度及角度的電控?fù)醢宕趴貫R射靶(可選擇高磁靶可鍍鐵、鎳等磁性材料);　　3、配置1個4英寸可旋轉(zhuǎn)、可加熱、可加裝偏壓電源的樣品臺;　　4、配置離子活化裝置;　　5、配置內(nèi)隔板便于清理和帶擋板的觀察窗;　　6、配置腔室烘烤加熱裝置;　　7

手動磁控濺射鍍膜機(jī) 產(chǎn)品信息

　　此款手動磁控濺射鍍膜機(jī)具備以下幾個優(yōu)點(diǎn)：

　　1、目前高校包括研究所的實(shí)驗(yàn)室面積都比較緊張，所以此款小型磁控濺射鍍膜機(jī)緊湊的設(shè)計更為合適;

　　2、配置3個3英寸可調(diào)節(jié)高度及角度的電控?fù)醢宕趴貫R射靶(可選擇高磁靶可鍍鐵、鎳等磁性材料);

　　3、配置1個4英寸可旋轉(zhuǎn)、可加熱、可加裝偏壓電源的樣品臺;

　　4、配置離子活化裝置;

　　5、配置內(nèi)隔板便于清理和帶擋板的觀察窗;

　　6、配置腔室烘烤加熱裝置;

　　7、配置高真空獲得及測量裝置;

　　8、配置膜厚實(shí)時監(jiān)控測量裝置;

　　9、配置3路質(zhì)量流量計充氣系統(tǒng)。

　　1.設(shè)備簡介

　　小型磁控濺射鍍膜儀，主要特點(diǎn)是設(shè)備體積小，結(jié)構(gòu)簡單緊湊易于操作，對實(shí)驗(yàn)室供電要求低;該系列設(shè)備主要部件采用進(jìn)口或者國內(nèi)的配置，從而提高設(shè)備的穩(wěn)定性;另外自主開發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設(shè)備的運(yùn)行重復(fù)性及安全性方面得到更好地保障。目前該系列有基本型、旗艦型、豪華型、尊享型4種不同配置可供選擇，可以根據(jù)客戶的不同需求進(jìn)行配置，比較靈活;標(biāo)配2只Φ2英寸永磁靶，一臺500W直流濺射電源，主要用來開發(fā)納米級單層及多層的金屬導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體膜以及絕緣膜等。

　　2.設(shè)備主要優(yōu)勢

　　2.1實(shí)用性：設(shè)備集成度高，結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，可以滿足客戶實(shí)驗(yàn)室空間不足的苛刻條件;通過更換設(shè)備上下法蘭可以實(shí)現(xiàn)磁控與蒸發(fā)功能的轉(zhuǎn)換，實(shí)現(xiàn)一機(jī)多用;

　　2.2方便性：設(shè)備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接線及安裝調(diào)試簡單，既保證了設(shè)備使用方便又保證了設(shè)備的整潔;

　　2.3高性價比：設(shè)備主要零部件采用進(jìn)口或國內(nèi)品牌，以國產(chǎn)設(shè)備的價格擁有進(jìn)口設(shè)備的配置，從而保證了設(shè)備的質(zhì)量及性能;

　　2.4安全性：獨(dú)立開發(fā)的PLC+觸摸屏智能操作系統(tǒng)在傳統(tǒng)操作系統(tǒng)的基礎(chǔ)上新具備了漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護(hù)提示等功能，保證了設(shè)備的使用安全性能;

　　3.主要技術(shù)參數(shù)

　　3.1 腔室尺寸：Ф246×228mm，1Cr18Ni9Ti優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì)，氬弧焊接;

　　3.2 樣品臺尺寸：Ф75mm，高度：60～120mm可調(diào)，旋轉(zhuǎn)：0-20r/min可調(diào);

　　3.3 真空系統(tǒng)：機(jī)械泵(TRP-12,3L/s)+國產(chǎn)分子泵(可選進(jìn)口分子泵);GDC-25b電磁擋板閥，DN25mm 限流閥;

　　3.4 極限真空：8.0×10-4Pa;

　　3.5 真空抽速：大氣～8×10-4Pa ≤ 60min;

　　3.6 真空測量：全量程復(fù)合真空計，測量范圍：105Pa～10-5Pa;

　　3.7 磁控靶：Φ2英寸2只(含靶擋板)，兼容直流電源和射頻電源;

　　3.8 濺射電源：直流和射頻可選;