簡介 ：

Leica EM ACE600是優(yōu)良的多用途高真空薄膜沉積系統(tǒng)，設(shè)計來根據(jù)您的FE-SEM和TEM應(yīng)用的需要生產(chǎn)非常薄的，細粒度的和導電的金屬和碳涂層，用于**分辨率分析。

這種高真空鍍膜機可以通過以下方法進行配置:濺射、碳絲蒸發(fā)、碳棒蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)和輝光放電。

適用于Leica EM ACE600高真空鍍膜機的Leica EM VCT真空冷凍傳輸系統(tǒng)，是無污染的低溫掃描電鏡樣本制備的理想解決方案。

適用于廣泛應(yīng)用的高真空鍍膜系統(tǒng)

EM ACE600 濺射鍍膜機配備可配置的金屬處理室，非常靈活，可以適應(yīng)廣泛的應(yīng)用。通過在單個制備過程中運行多達兩個不同的源，甚至為高級冷凍工作流程配置 EM ACE600，實現(xiàn)您的工作流程目標并滿足您實驗室的需求。

l  對平面或結(jié)構(gòu)化的非導電樣品進行高分辨率成像

l  增強納米級結(jié)構(gòu)的對比度，例如蛋白質(zhì)或 DNA 鏈

l  為 TEM 網(wǎng)格生產(chǎn)薄而堅固的支撐層或

l  為敏感樣品提供保護層

l  擴展冷凍應(yīng)用系統(tǒng)

具有濺射涂層的可重現(xiàn)的高質(zhì)量薄膜

使用 EM ACE600 高真空鍍膜系統(tǒng)，每次運行都能始終如一地生產(chǎn)出高質(zhì)量的濺射鍍膜薄膜。憑借基于的自動化濺射鍍膜工藝，滿足您鍍膜需求的正確條件并獲得可重復的結(jié)果。

執(zhí)行高達 200kX 及更高倍率的高倍 SEM 分析，具有 <2x10-6 mbar 的出色基礎(chǔ)真空和一系列濺射靶材的精細平衡工藝參數(shù)。根據(jù)樣品形態(tài)的需要調(diào)整樣品距離和涂層角度。

為了進一步提高鍍膜效果，您可以使用Meissner trap將真空增加到 10-7 毫巴范圍，然后嘗試濺射靶材或?qū)ρ鯕饷舾械臉悠凡牧稀?/p>

具有碳涂層的可重復的高質(zhì)量薄膜

使用 EM ACE600，您可以通過使用碳螺紋涂層、碳棒涂層或電子束蒸發(fā)來生產(chǎn)高質(zhì)量的碳膜。

碳絲蒸發(fā)已成為一種廣泛使用的方法

Leica Microsystems 開發(fā)了的自適應(yīng)脈沖方法，應(yīng)用于 EM ACE600。它可以生產(chǎn)亞納米厚度的**、堅固和非晶薄膜，同時**限度地減少對樣品的熱影響。無論您是需要納米級薄、堅固且清潔的 TEM 支撐層、擴散（保護）涂層，還是大型均質(zhì)碳層，碳線都是正確的選擇。

對于專用應(yīng)用，例如旋轉(zhuǎn)陰影，您可以使用電子束蒸發(fā)器。其光束發(fā)散角小，非常適合用于陰影涂層，以增強納米級結(jié)構(gòu)的邊緣對比度。

根據(jù)您的需求調(diào)整 EM ACE600

由于 EM ACE600 的大型可配置金屬處理室，可以在不破壞真空的情況下在一臺涂布機中運行多個工藝。同時，將濺射頭與的碳絲蒸發(fā)器相結(jié)合，或選擇兩個濺射源，在單個制備過程中實現(xiàn)多層金屬涂層。

l  得益于優(yōu)化的雙源概念，帶有兩個傾斜端口和一個旋轉(zhuǎn)載物臺，在整個 100 mm 載物臺上生產(chǎn)均勻分布的薄膜

l  從堅固的碳線、電子束和濺射鍍膜機源中選擇

l  為您的 EM ACE600 配備輝光放電濺射

l  可隨時現(xiàn)場升級

專注于準備過程的關(guān)鍵部分

使用 EM ACE600 碳和濺射鍍膜機，只需按一個按鈕即可完成您的常規(guī)樣品制備。簡單可靠的工作流程和方便的標準操作程序使您能夠?qū)Ｗ⒂?EM 樣品制備的關(guān)鍵部分。您可以專注于優(yōu)化您的工作流程，減少學習如何操作系統(tǒng)或培訓他人如何使用系統(tǒng)的時間。

l  通過前門安全裝載和卸載敏感樣品

l  基于工作流的用戶界面和對相關(guān)參數(shù)的快速訪問指導方式

l  重量輕、堅固耐用的光源，便于日常處理