半導(dǎo)體計量的兩種互補(bǔ)技術(shù)。
WLI: 白光干涉測量是一種光學(xué)技術(shù),它可以對非常寬的區(qū)域進(jìn)行成像,速度非??欤瑵M足高吞吐量測量。
AFM: 原子力顯微鏡是一種掃描探針技術(shù),即使對透明材料也能提供確的納米級分辨率測量。
WLI和AFM在視野,分辨率和速度方面結(jié)合。
WLI應(yīng)用需要比WLI 能力更高的分辨率和精度
的化學(xué)機(jī)械拋光計量和監(jiān)測
封裝
全掩模的熱點(diǎn)和缺陷檢測
晶圓級計量
AFM應(yīng)用需要更大的區(qū)域和更高的吞吐量
In-line 晶圓計量
長行程CMP輪廓表征
亞埃級表面粗糙度控制
晶圓檢驗與分析
NX-Hybrid WLI 功能
Park WLI系統(tǒng)
Park WLI支持WLI和PSI模式(PSI模式由電動過濾器變換器 支持)
可用物鏡放大倍數(shù):2.5X 、10X、20X、50X、100X
兩個物鏡可由電動線性換鏡器自動更換
WLI光學(xué)干涉測量
掃描 Mirau 物鏡高度時,由干涉引起的光強(qiáng)變化可以計算每個像素處的樣品表面高度
白光干涉測量 (WLI) 和相移干涉測量 (PSI) 是兩種常用的表面表征技術(shù)
NX-Hybrid WLI 應(yīng)用
熱點(diǎn)檢測和審查
熱點(diǎn)快速調(diào)查和熱點(diǎn)缺陷自動審查
可以通過比較參考和目標(biāo)樣品區(qū)域的圖像來檢測圖案結(jié)構(gòu)的熱點(diǎn)
WLI 的高速“熱點(diǎn)檢測”可以快速定位缺陷位置,以進(jìn)行高分辨率 AFM 審查