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環(huán)保APP正式上線

MA12 Mask Aligner 半自動(dòng)光刻機(jī)

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  • 公司名稱(chēng)上海鉑拓能源科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2024/3/7 17:52:27
  • 訪問(wèn)次數(shù)95
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上海鉑拓能源科技有限公司是一家專(zhuān)業(yè)從事實(shí)驗(yàn)室設(shè)備解決方案、特殊工況用儀器儀表系統(tǒng)解決方案以及*材料應(yīng)用的科技型企業(yè)?! √厥夤r儀器儀表:公司目前針對(duì)糧儲(chǔ)、能源化工等行業(yè)提供復(fù)雜工況環(huán)境下用的測(cè)量?jī)x表及解決方案。如俄羅斯利馬克高頻雷達(dá)物位計(jì)、伊科菲斯環(huán)保電離輻射料位計(jì)和密度計(jì)、申鑠超聲波在線濃度儀等??稍诟邷?、超高壓力(測(cè)量介質(zhì)溫度:2000℃,60bar)、高粉塵、高腐蝕、易結(jié)晶、蒸汽、超低介電常數(shù) (介電常數(shù)1.2-1.4下依然非常精準(zhǔn))等介質(zhì)工況下使用。目前已經(jīng)廣泛應(yīng)用于糧油儲(chǔ)倉(cāng)、石化、鋼鐵冶金、電廠、水泥等行業(yè)儲(chǔ)罐物位、介質(zhì)密度及濃度的在線測(cè)量?! ?shí)驗(yàn)室平臺(tái)建設(shè):專(zhuān)業(yè)的化工、材料、環(huán)保技術(shù)團(tuán)隊(duì),可以為研究單位定制實(shí)驗(yàn)裝置,目前已經(jīng)與中科院硅酸鹽研究所、中科院高等院、航天811所、上海交通大學(xué)、上海大學(xué)、上海理工大學(xué)、同濟(jì)大學(xué)等高校科研院所建立項(xiàng)目合作。代理進(jìn)口實(shí)驗(yàn)室設(shè)備,如日本Nanovater納米分散設(shè)備、德國(guó)納博熱高溫爐、瑞士萬(wàn)通電化學(xué)工作站水分儀和電位滴定儀、安捷倫氣相色譜儀和氣質(zhì)聯(lián)用儀、PE珀金埃爾默ICP、麥克比表面儀、HORIBA激光散射粒徑分布分析儀、掃描電鏡、透射電鏡、哈希濁度儀、梅特勒天平及水分儀、英國(guó)科爾康氣體檢測(cè)儀、日本理研軟磁交直儀、MATS磁性材料測(cè)量系統(tǒng)、合肥科晶以及國(guó)外品牌的鋰電池及燃料電池相關(guān)實(shí)驗(yàn)室設(shè)備等。   *材料:*碳材料;針對(duì)新能源汽車(chē)行業(yè)電池包熱管理的需求,提供定制化隔熱防火材料及熱管理解決方案;提供電子元器件高熱傳導(dǎo)氮化硅基板及金屬陶瓷復(fù)合材料。
MA12 Mask Aligner 半自動(dòng)光刻機(jī)用于工業(yè)研究和低成本生產(chǎn)的手動(dòng)光刻機(jī)MA12是專(zhuān)為對(duì)準(zhǔn)和曝光300毫米以下方形襯底和晶圓而設(shè)計(jì)的,適合于工業(yè)研究和生產(chǎn)。憑借靈活處理和過(guò)程控制解決方案,本設(shè)備主要用于封裝,包括3D圓晶級(jí)芯片尺寸封裝, 以及開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)敏感元件,如MEMS。
MA12 Mask Aligner 半自動(dòng)光刻機(jī) 產(chǎn)品信息
  • MA12 Mask Aligner


    用于工業(yè)研究和低成本生產(chǎn)的手動(dòng)光刻機(jī)

    MA12是專(zhuān)為對(duì)準(zhǔn)和曝光300毫米以下方形襯底和晶圓而設(shè)計(jì)的,適合于工業(yè)研究和生產(chǎn)。憑借靈活處理和過(guò)程控制解決方案,本設(shè)備主要用于封裝,包括3D圓晶級(jí)芯片尺寸封裝, 以及開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)敏感元件,如MEMS。

    亮點(diǎn):

    強(qiáng)大的工藝控制;

    ◆ 能夠可靠地處理彎曲晶圓片和敏感材料;

    ◆ 的光均勻性。

    通過(guò)對(duì)準(zhǔn)技術(shù)選項(xiàng)和可適應(yīng)各種工藝環(huán)境的光學(xué)系統(tǒng),MA12提供開(kāi)發(fā)和使用光刻工藝所需要的靈活性。輔助操作系統(tǒng)和智能圖形用戶界面結(jié)合手動(dòng)晶圓處理優(yōu)點(diǎn)打造出強(qiáng)大的工藝控制和可靠性。

    MA12所采用的光刻技術(shù)能夠?qū)㈤_(kāi)發(fā)出的工藝輕松傳輸?shù)?SUSS MicroTec 公司第二代 MA300 生產(chǎn)型光刻機(jī)上。





關(guān)鍵詞:芯片
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