簡介：

公司以家的針尖技術為核心競爭力，技術源自于德國伊爾默瑙工業(yè)大學，致力于主動式針尖技術在微納米結構制備和表征方面的研發(fā)，及其相關設備的產(chǎn)業(yè)化。

公司研制一套基于掃描針尖低能電子場發(fā)射的原理、采用壓阻式微納米針尖和多維納米定位與測量技術、在半導體器件材料表面制造尺寸小于5納米線寬結構的高性能微納加工系統(tǒng)。可在大氣環(huán)境下，高經(jīng)濟效益、快速直寫5納米以下結構和制備納米級器件。該系統(tǒng)的閉環(huán)回路可實現(xiàn)使用同一掃描探針對納米結構的成像、定位、檢測和操縱。

技術特點：

。場發(fā)射低能電子束
。大幅降低電子束背底散射
。幾乎消除電子束臨近效應
。光刻5納米以下單線寬結構
。光刻結構間距小于2納米
。接近原子級分辨的套刻精度
。線寫速度高達 300 μm/s
。大氣環(huán)境下可實現(xiàn)正負光刻
。正光刻流程無需顯影步驟
。無需調(diào)制電子束聚光
。大范圍分步重復工藝
。Mix & Match 混合光刻模式
。針尖曝光與結構成像實時進行
。真空原位觀測光刻圖案

功能指標：

產(chǎn)品規(guī)格：

探針掃描頭配置：

樣品臺配置：