產(chǎn)品簡介:
EVG IQ Aligner是一款高自動化的光刻工藝平臺,可集成多種高精度對準技術可對應在晶圓及多種基板上的應用,適用于大型生產(chǎn)線。
主要特點及參數(shù):
·支持8英寸(200mm)晶圓
·支持易碎、薄片及翹曲晶圓的處理
·全自動頂部及底部對準:
頂部對準精度≤±0.5μm
底部對準精度≤±1μm
·支持Casettes, SMIF或FOUP上料
·可選配功能:
紅外對準(透射或反射)
產(chǎn)品簡介:
EVG IQ Aligner是一款高自動化的光刻工藝平臺,可集成多種高精度對準技術可對應在晶圓及多種基板上的應用,適用于大型生產(chǎn)線。
主要特點及參數(shù):
·支持8英寸(200mm)晶圓
·支持易碎、薄片及翹曲晶圓的處理
·全自動頂部及底部對準:
頂部對準精度≤±0.5μm
底部對準精度≤±1μm
·支持Casettes, SMIF或FOUP上料
·可選配功能:
紅外對準(透射或反射)
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