產品介紹
用于雙激光故障注入的 D-LMS 顯微鏡站是一個平臺，允許獨立聚焦和掃描兩個激光點，用于集成電路的評估。雙點注射工藝的理想選擇，它提供了所有空間和時間的靈活性，可以通過背面分析電路
性能特點
集成電路評估雙激光站(均通過顯微鏡點)
背面激光故障注入的理想選擇
具有高分辨率物鏡的1米以下單模激光光斑尺寸
兩個激光光斑都具有獨立的時間和空間調制
通過數百米的硅來觀察集成電路路徑上的激光點的照相機
高再現性和高分辨率激光光斑位移
包括三個阿爾法諾夫激光模塊
可選功能與配件
光學鏡頭技術
光電發(fā)射套件
熱激光刺激套件
通過CE認證的激光外殼完成自動設置
高分辨率目標
技術參數
單模光纖激光器
|
| PDM+/PDM+ HP | PDM4+ and PDM4+ HP |
| 脈沖持續(xù)時間 | 從1.5納秒到連續(xù)波 | 從1.5納秒到連續(xù)波 |
| 峰值功率 | 高達3.2瓦 | 高達10瓦 |
| 波長 | 980納米；1064牛米 | 980納米；1064牛米 |
| 重復率 | 從單發(fā)到250兆赫 | 從單發(fā)到250兆赫 |
| 命令接口 | TTL/LVTTL /軟件& dlls | TTL/LVTTL /軟件& dlls |
| 光束質量 | 單模 | 單模 |
InGaAs 紅外相機
| Captor | 640x512 µm |
| 動態(tài)量程 | 140 dB |
| 接口 | USB(包含軟件) |
電學
| 電壓 | 220 V/110 V |
| 電流 | 16 A |
產品參數
