日本advanced 厚度/膜厚/光學(xué)常數(shù)測(cè)量裝置ETA-TCM
這是一種測(cè)量納米級(jí)薄膜厚度的裝置。其特點(diǎn)是快速、非接觸、能夠高精度地進(jìn)行大面積測(cè)量。
特長(zhǎng)：
反射/透射光譜測(cè)量
測(cè)量基材上單層薄膜的 n/k（光學(xué)常數(shù)）
基材上堆疊的每層薄膜的膜厚（最多3層）
各膜層光學(xué)模型及參數(shù)可調(diào)
受光部波長(zhǎng)帶（320nm～1700nm）
配備自動(dòng)校準(zhǔn)功能
支持高速測(cè)量、卷對(duì)卷、在線測(cè)量
應(yīng)用：
1.電子產(chǎn)品
顯示/照明/半導(dǎo)體/OLED等
實(shí)例：AR/防指紋膜/防污膜/阻隔膜/硬涂層/絕緣/TFT等。
2.汽車(chē)
醫(yī)療器械/藥品/細(xì)胞/小瓶等
實(shí)例：AR/防指紋膜/防污膜/阻隔膜/硬涂層/隔膜等。
3.生物醫(yī)學(xué)
顯示/照明/半導(dǎo)體/OLED等
實(shí)例：SiO2涂層/醫(yī)用薄膜等。
4.其他的
太陽(yáng)能電池/鋰電池/鏡頭/飲料容器/光盤(pán)等
實(shí)例：阻隔膜/硬涂層/SiO2涂層/聚碳酸酯/隔膜等。
日本advanced 厚度/膜厚/光學(xué)常數(shù)測(cè)量裝置ETA-TCM
這是一種測(cè)量納米級(jí)薄膜厚度的裝置。其特點(diǎn)是快速、非接觸、能夠高精度地進(jìn)行大面積測(cè)量。
特長(zhǎng)：
反射/透射光譜測(cè)量
測(cè)量基材上單層薄膜的 n/k（光學(xué)常數(shù)）
基材上堆疊的每層薄膜的膜厚（最多3層）
各膜層光學(xué)模型及參數(shù)可調(diào)
受光部波長(zhǎng)帶（320nm～1700nm）
配備自動(dòng)校準(zhǔn)功能
支持高速測(cè)量、卷對(duì)卷、在線測(cè)量
應(yīng)用：
1.電子產(chǎn)品
顯示/照明/半導(dǎo)體/OLED等
實(shí)例：AR/防指紋膜/防污膜/阻隔膜/硬涂層/絕緣/TFT等。
2.汽車(chē)
醫(yī)療器械/藥品/細(xì)胞/小瓶等
實(shí)例：AR/防指紋膜/防污膜/阻隔膜/硬涂層/隔膜等。
3.生物醫(yī)學(xué)
顯示/照明/半導(dǎo)體/OLED等
實(shí)例：SiO2涂層/醫(yī)用薄膜等。
4.其他的
太陽(yáng)能電池/鋰電池/鏡頭/飲料容器/光盤(pán)等
實(shí)例：阻隔膜/硬涂層/SiO2涂層/聚碳酸酯/隔膜等。
