真空鍍膜冷水機(jī)
真空鍍膜工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對蒸發(fā)的膜體分子會產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無光,所以必須在高真空下才能使結(jié)晶體細(xì)密光亮,果如真空度不高結(jié)晶體就會失去光澤結(jié)合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射,結(jié)合差工效低光澤差?,F(xiàn)在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜,解決了過去自然蒸發(fā)無法加工的膜體品種,如鍍鈦鍍鋯等等。
中頻設(shè)備必須加冷卻水,原因是它的頻率高電流大。電流在導(dǎo)體流動時有一個集膚效應(yīng),電荷會聚集在電導(dǎo)有表面積,這樣使電導(dǎo)發(fā)熱所以采用中孔管做導(dǎo)體中間加水冷卻。
(主要是圓柱靶)為什么也要用水冷卻?磁控濺射靶在發(fā)射時會產(chǎn)生高溫會使射槍變形,所以它有一個水套來冷卻射槍。同時還有一個重要原因磁控濺射可以被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中***的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好。
從更深層次研究電子在非均勻電磁場中的運動規(guī)律 探討了磁控濺射的更一般原理以及磁場的橫向不均勻性及對稱性是磁約束的本質(zhì)原因。磁控濺射可以被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中***的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好、裝置性能穩(wěn)定。
中頻真空鍍膜機(jī)一般要配一臺冷水機(jī)作為鍍膜機(jī)(主要是圓柱靶)的冷卻設(shè)備
中頻設(shè)備必須加冷卻水原因是它的頻率高電流大。電流在導(dǎo)體流動時有一個集膚效應(yīng)
電荷會聚集在電導(dǎo)有表面積這樣使電導(dǎo)發(fā)熱所以采用中孔管做導(dǎo)體中間加水冷卻。
真空鍍膜冷水機(jī)是寶馳源公司研發(fā)生產(chǎn)的高效節(jié)能的制冷設(shè)備,廣泛應(yīng)用于各種真空鍍膜,表面處理領(lǐng)域。超高真空濺射儀、X光機(jī)、真空爐、鍍膜機(jī)、加速器等科學(xué)儀器的理想配套設(shè)備。