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PECVD鍍膜設(shè)備

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公司名稱北京嘉潤(rùn)通力科技有限公司
品牌
型號(hào)
所在地
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
更新時(shí)間2024/10/5 8:34:43
訪問(wèn)次數(shù)292

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北京嘉潤(rùn)通力科技有限公司是成立于北京中關(guān)村*產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)的*企業(yè)。公司以長(zhǎng)年服務(wù)于電力、石油、化工、空調(diào)供暖、航天、電子等行業(yè)的企業(yè)、事業(yè)單位，致力于引進(jìn)和應(yīng)用*的科技生產(chǎn)手段，以提高整體生產(chǎn)和設(shè)備維護(hù)水平。通過(guò)長(zhǎng)時(shí)間的市場(chǎng)推廣和客戶服務(wù)工作，公司積累了豐富的產(chǎn)品經(jīng)驗(yàn)，專門用于解決生產(chǎn)中的各種疑難問(wèn)題。

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PEVCD(等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)最重要的應(yīng)用之一是沉積微電子器件用絕緣薄膜，在低溫下沉積氮化硅、氧化硅或硅的氮氧化物一類的絕緣薄膜，這對(duì)于超大規(guī)模集成芯片的生產(chǎn)是至關(guān)重要的

PECVD鍍膜設(shè)備產(chǎn)品信息

PEVCD(等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)最重要的應(yīng)用之一是沉積微電子器件用絕緣薄膜，在低溫下沉積氮化硅、氧化硅或硅的氮氧化物一類的絕緣薄膜，這對(duì)于超大規(guī)模集成芯片的生產(chǎn)是至關(guān)重要的。PECVD的一個(gè)重要優(yōu)點(diǎn)是能在比熱CVD更低的溫度下沉積。PECVD技術(shù)在250～400度的溫度范圍內(nèi)使氮化硅薄膜的沉積成為可能。PECVD沉積SiO2絕緣層被廣泛地應(yīng)用于半導(dǎo)體器件工藝，最近在光學(xué)纖維的涂層和某些裝飾性涂層方面獲得了應(yīng)用。近年來(lái)，PECVD在摩擦磨損、腐蝕防護(hù)和切削工具涂層應(yīng)用方面獲得了很大進(jìn)展。

	PECVD設(shè)備可制備的薄膜 SiNx SiO2 α-Si Poly-Si GaAs膜 Si:H膜 SiC膜 DLC多晶硅廣泛應(yīng)用于微電子和光電子領(lǐng)域科研和生產(chǎn)。

	PECVD沉積設(shè)備參數(shù) 特殊的平板式φ200H150反應(yīng)室系統(tǒng)極限真空110-5Pa 帶加熱和氣浴噴淋系統(tǒng) 電源：13.56M Hz300W / 40K Hz600W / 雙電源數(shù)字定時(shí)器，精度1秒數(shù)字溫度控制系統(tǒng) 工藝程序自動(dòng)化觸摸屏控制、動(dòng)畫實(shí)時(shí)顯示工藝過(guò)程的狀況和提示質(zhì)量流量計(jì)4個(gè)；氣路4路 ( 可增選 )。樣品加熱：30～600℃，控溫精度：≤ ±1℃ 強(qiáng)制循環(huán)水冷