微電子工業(yè)用純水設(shè)備
PCB線路板用純水設(shè)備統(tǒng)稱線路板清洗設(shè)備,PCB板純水設(shè)備,PCB純水機(jī),因?yàn)榫€路板生產(chǎn)過(guò)程中常用到的電鍍銅,錫,鎳金;化學(xué)鍍鎳金;PTH/黑孔;表面處理蝕刻等生產(chǎn)過(guò)程都需要用到不同要求的純水,再者線路板生產(chǎn)過(guò)程中使用的藥水不同,生產(chǎn)工藝流程的差異,對(duì)純水的品質(zhì)要求也不一樣。
純水設(shè)備還可以應(yīng)用到其它電子產(chǎn)品清洗用水,用途和參考標(biāo)準(zhǔn):
用途Applications | 用水指標(biāo)Water Indicators | 參考標(biāo)準(zhǔn)Reference standard |
單晶硅、多晶硅、太陽(yáng)能電池、氧化鋁坩堝、光伏玻璃等生產(chǎn)、半導(dǎo)體芯片相關(guān)、半導(dǎo)體設(shè)備清洗
| 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM
| 我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo),GB11446-1-1997 美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo) |
單晶硅半導(dǎo)體集成電路塊,顯像管、玻殼、液晶顯示器等制造工業(yè)
| 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM
| 美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo) 我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo),GB11446-1-1997 |
光學(xué)材料清洗用水、電子陶瓷行業(yè)用純水、磁性材料用純水
| 電阻率 10 ~17 MΩ.CM
| 我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo),GB11446-1-1997 美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo) |
蓄電池、鋰電池、鋅錳電池生產(chǎn)
| 電阻率5 ~10 MΩ.CM
| 我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo),GB11446-1-1997 |
有色金屬、貴金屬冶煉用水、納米級(jí)新材料生產(chǎn)用水、航空新材料生產(chǎn)用水、ITO導(dǎo)電玻璃制造用水、電子級(jí)無(wú)塵布生產(chǎn)用水 | 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM
| 我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo),GB11446-1-1997
美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)
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主要工藝流程和出水指標(biāo):
預(yù)處理+二級(jí)反滲透+EDI(電阻率≥15MΩ.CM)
預(yù)處理+二級(jí)反滲透+脫氣膜+EDI +拋光混床(電阻率≥18.25MΩ.CM)
詳細(xì)工藝需根據(jù)原水及用水要求設(shè)計(jì)情況進(jìn)行設(shè)計(jì)
純水設(shè)備的主要特點(diǎn)
▼結(jié)合電子工業(yè)用水連續(xù)生產(chǎn)的特性,采用了膜法處理工藝(UF+RO+EDI)完成高純水的制備工作; ▼對(duì)于電子行業(yè)用水的特性,增強(qiáng)了對(duì)水中二氧化硅、重金屬和有機(jī)碳的脫除; ▼采用了氮封水箱解決了電子工業(yè)用水要求較高,水的儲(chǔ)存容易污染問(wèn)題; ▼采用進(jìn)口反滲透膜,脫鹽率高,使用壽命長(zhǎng),運(yùn)行成本低廉,產(chǎn)水水質(zhì)高而穩(wěn)定; ▼在線水質(zhì)監(jiān)測(cè)控制,實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)水質(zhì)變化,保障水質(zhì)安全; ▼全自動(dòng)電控程序,還可選配觸摸屏操作,使用方便,操作簡(jiǎn)單、安全; ▼切合當(dāng)?shù)厮|(zhì)的個(gè)性化設(shè)計(jì),設(shè)想周到的堆疊式設(shè)計(jì),占地面積小,滿足客戶需求。 ▼運(yùn)行費(fèi)用及維修成本低,自動(dòng)運(yùn)行,可以實(shí)現(xiàn)無(wú)人化管理操作。 |