AK-225是綜合氟生產(chǎn)廠家——旭硝于公司開發(fā)的具有21世紀水平的無燃點、高安全性氟溶液。具有低表張力、低黏度，有選擇性的溶解等優(yōu)良性能的AK-225并不單單是作為清洗劑，它在工業(yè)上常被當作功能性溶劑使用。此外，ASAHIKLIN AK-225作為氟型昂113（CPC-113）的替代品，曾獲得美國大氣凈化法SNAP（Sinificant New Alternatuve Policy）計劃的肯定等，在備倍受好評：根據(jù)蒙特利爾協(xié)議，在1995年底全面廢除破壞臭氧層物質(zhì)氟里昂113.至今，繼承氟里昂113性能和安全性優(yōu)點的氟溶劑唯有AK-225。
(1) AK-225）有低表而張力，低黏度等特點，具有優(yōu)良的滲透性，適于清洗結(jié)構(gòu)復雜的精密零部件。此外，對金屬、塑料等各種材料的影響很低，所以能有效地清洗各種材質(zhì)的電子零部件。
(2) 具有優(yōu)良的干燥性，即使沒有干燥機也可以得到高水準的后期處理效果。而且，可以使用以往的溶劑清洗機，把設備投資控制在

小限度。對各種有機化合物具有優(yōu)良的溶液性、對金屬及塑料材料的影響低、表面張力度、干燥性強的特點。而且，蒸發(fā)汽化熱低，可避免受結(jié)露而引起損壞。
(3) 具有優(yōu)良的清洗力，同時對塑膠材料的影響低，可以作為有效溶劑單獨用于脫模型的清洗及除塵。
(4) AK-225系列中，作為去水產(chǎn)品有通用性高的AK-225AE、通過添加界面活性劑進一步提高去水性能的AK-225DW以及AK-225DH。AK-225AE作為水洗、漂洗后的去水劑可用于電鍍和透鏡生產(chǎn)工序。此外，AK-225DW及AK-225DH可以實現(xiàn)氫族、亞氫族清洗劑的清洗、漂洗后的干燥工序的去水效果。
(5) AK-225具有優(yōu)良的干燥性，可以用作炭化氫族清洗劑、亞氫族清洗劑以及用酒精清洗后的干燥溶劑。由于在常溫下會快速蒸發(fā)，所以不需要干燥機進行干燥處理，在縮短清洗工序的同時也可以縮短生產(chǎn)時間。此處，由于蒸發(fā)氣化熱小，沸點比室溫高的特點，很難發(fā)生結(jié)露現(xiàn)象，有效地解決了斑點、滲出等后期處理的不良現(xiàn)象。
(6) AK-225在較寬的溫度范圍內(nèi)部都可以保持較低的液體黏度，因此適于從極低溫到常溫的載冷。在常溫下為液體，無須高壓氣體設備，補充液體也很容易。此處，由于化學性穩(wěn)定，基本上不對配管和造成影響，可以長期放心地使用。
(7) AK-225有良好化學穩(wěn)定性，可以在各種場合作為溶媒或者懸浮劑使用方面，可以溶解各種有機化合物。另一方面化學性不活躍。因此，與溶解了物質(zhì)不發(fā)生反應，適于用作油劑或表面處理劑的稀釋溶劑。用作粉狀物體或者潤滑脂的懸浮劑時，低表而張力和低黏度的特性可以實現(xiàn)均勻分散：此處，優(yōu)良的干燥性、低沸點，使溶劑非常容易地被除去或者分離。
(8) AK-225擁有優(yōu)良的干燥性，其蒸發(fā)汽化熱較小，具有無須用大裝置和新增設備的成本優(yōu)勢。此外利用現(xiàn)有的設備及裝置減少溶劑消費量，可以進一步降低經(jīng)營成本。
(9) AK-225具有穩(wěn)定的化學性，可以無數(shù)次循環(huán)使用。所以不論在環(huán)保方面還是在成本核算方面，都是優(yōu)良的溶劑。積極地回收使用過的液體

產(chǎn)品規(guī)格
AK-225
化學式： CF3CF2CHCL2
沸點： 54oC
凝固點： -131oC
黏度（25oC）： 0.59mPa.s
表面張力（25oC）：16.2mN/m
引火點： 無

本產(chǎn)品無閃點，不燃不爆，環(huán)保高效。本品主要用于清洗LCD液晶屏、PCB線路板、精密零件、半導體硅片、光學鏡片等。是各種出口產(chǎn)品加工、生產(chǎn)清洗工序中的產(chǎn)品。

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