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廣電計量檢測集團(tuán)股份有限公司

抗黏劑蒸鍍機 抗粘劑涂膠機 硅烷氣相鍍膜機

參考價 98980
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱上海雋思實驗儀器有限公司
  • 品       牌雋思
  • 型       號JS
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時間2025/2/26 14:27:43
  • 訪問次數(shù)214
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上海雋思實驗儀器有限公司(以下簡稱“雋思儀器”)是一家專業(yè)從事儀器設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)、銷售及服務(wù)的企業(yè)。主要生產(chǎn)半導(dǎo)體工藝設(shè)備、環(huán)境模擬儀器設(shè)備、線纜試驗機、橡塑試驗檢測設(shè)備、黑蒜設(shè)備等的高新技術(shù)型企業(yè),具有很強的自主開發(fā)、設(shè)計能力,服務(wù)于電子、電力、通訊、環(huán)保、農(nóng)業(yè),建筑,節(jié)能等行業(yè);多年來,公司以“真摯的服務(wù)、優(yōu)質(zhì)的品質(zhì)”為宗旨,為國內(nèi)外廣大用戶提供了周到的售前、售中、售后服務(wù)。贏得了國內(nèi)外客戶的*好評,更為我們業(yè)務(wù)的快速發(fā)展奠定了一定的基礎(chǔ)。我們的服務(wù)也更精益求精,更完善!
 雋思儀器主要業(yè)務(wù)有HMDS預(yù)處理系統(tǒng),HMDS烘箱,潔凈烤箱,百級潔凈烘箱,氮氣烘箱,高溫?zé)o氧烘箱,真空無氧烘箱,無塵無氧化烘箱,抗粘劑涂膠機,精密恒溫加熱臺,快速高低溫氣流儀,超低溫試驗箱,高低溫試驗箱,高低溫交變濕熱箱定做,HMDS真空涂膠烘箱,低溫脆性檢測儀,黑蒜發(fā)酵設(shè)備,導(dǎo)體直流電阻測試儀,電線電纜檢測儀器,真空烘箱,黑蒜試驗機,橡塑檢測試驗機等。
    不斷追求技術(shù)進(jìn)步、提升專業(yè)服務(wù)能力,做一個專業(yè)的儀器設(shè)備供應(yīng)商是我們的發(fā)展目標(biāo)。企業(yè)內(nèi)部實施了CRM、ERP項目管理,在產(chǎn)品開發(fā)、質(zhì)量控制、集成供應(yīng)鏈、人力資源管理、財務(wù)管理等諸多方面取得了長足發(fā)展。同時建立了標(biāo)準(zhǔn)化的服務(wù)流程,形成了覆蓋全國的快速服務(wù)網(wǎng)絡(luò),以盡心盡責(zé)的服務(wù)理念和完備的技術(shù)得到用戶的*稱贊。我們將珍視每一次與您合做的機會,以飽滿的熱情、真誠的服務(wù)與您共創(chuàng)燦爛的未來!






HMDS烘箱,百級潔凈烘箱,氮氣烘箱,高溫?zé)o氧烘箱,PI烤箱,真空無氧烘箱,無塵無氧化烘箱,抗粘劑涂膠機,精密恒溫加熱臺,超低溫試驗箱
材質(zhì) 不銹鋼316 工作室尺寸 300-8000mm
功率 2800 加工定制
類型 真空 適用范圍 半導(dǎo)體,電子,醫(yī)療,新材料,玻璃,陶瓷
溫度范圍 200℃ 重量 190kg
抗黏劑蒸鍍機 抗粘劑涂膠機 硅烷氣相鍍膜機通過精確控制烘箱溫度(100-200℃)、處理時長及保持時間等參數(shù),使氮烷(HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三氯硅烷)沉積在襯底表面,生成疏水性的保護(hù)層,,將親水基片轉(zhuǎn)化為疏水性。該過程有效增大處理后的基片接觸角,減少光刻膠使用量約30%,同時提升膠層與基片的黏附強度?。
抗黏劑蒸鍍機 抗粘劑涂膠機 硅烷氣相鍍膜機 產(chǎn)品信息

抗黏劑蒸鍍機 抗粘劑涂膠機 硅烷氣相鍍膜機技術(shù)解析

一、工作原理

  1. ?表面改性機制?  
          預(yù)處理系統(tǒng)通過精確控制烘箱溫度(100-200℃)、處理時長及保持時間等參數(shù),使氮烷(HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三氯硅烷)沉積在襯底表面,生成疏水性的保護(hù)層,,將親水基片轉(zhuǎn)化為疏水性。該過程有效增大處理后的基片接觸角,減少光刻膠使用量約30%,同時提升膠層與基片的黏附強度?。

  2. ?真空環(huán)境協(xié)同作用?
    設(shè)備通過真空泵建立133Pa低氣壓環(huán)境,結(jié)合氮氣置換技術(shù),消除氧氣對化學(xué)反應(yīng)的干擾?。三面加熱系統(tǒng)維持工藝溫度恒溫,確保硅烷蒸汽均勻分布在基片表面,完成高效化學(xué)鍵合?。

二、抗黏劑蒸鍍機 抗粘劑涂膠機  偶聯(lián)劑涂布機核心應(yīng)用價值

  1. ?工藝優(yōu)化必要性?
    半導(dǎo)體光刻工藝中,硅片表面殘留的羥基和水分會導(dǎo)致光刻膠脫粘,引發(fā)顯影液滲透、浮膠等問題?。HMDS預(yù)處理通過表面疏水化改造,阻斷顯影液侵蝕路徑,使正膠工藝的圖形轉(zhuǎn)移成功率提升40%以上?。

  2. ?智能化操作優(yōu)勢?
    集成自動HMDS加注系統(tǒng)和微電腦控溫模塊,實現(xiàn)真空抽排、氮氣置換、溫度控制的全流程自動化?。一鍵式操作界面支持5組程序存儲,滿足2英寸至12英寸晶圓的差異化處理需求?。

三、抗黏劑蒸鍍機 抗粘劑涂膠機 硅烷氣相鍍膜機 關(guān)鍵技術(shù)參數(shù)

參數(shù)類別規(guī)格指標(biāo)
電源配置AC220V±10%/50Hz±2%
熱力系統(tǒng)2000W加熱功率,±0.5℃波動度
真空性能極限真空133Pa(1torr)
處理空間450450450mm標(biāo)準(zhǔn)腔體(支持定制)

該設(shè)備采用316L醫(yī)用不銹鋼腔體,配置PID智能溫控和觸摸屏人機界面,確保半導(dǎo)體級工藝穩(wěn)定性?。


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