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ABM雙面對(duì)準(zhǔn)（BSV）光刻機(jī)

參考價(jià)	￥ 1500000
訂貨量	≥1臺(tái)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱(chēng)上海螣芯電子科技有限公司
品牌其他品牌
型號(hào)ABM350BSV
所在地上海市
廠商性質(zhì)代理商
更新時(shí)間2025/3/11 22:05:32
訪問(wèn)次數(shù)31

產(chǎn)品標(biāo)簽:

光刻機(jī)接觸式光刻機(jī)紫外光刻機(jī)半自動(dòng)光刻機(jī)

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

上海螣芯電子科技有限公司（ShangHai TengXin Electronic Technology Co., Ltd）主要為半導(dǎo)體、微組裝領(lǐng)域的客戶提供設(shè)備集成和技術(shù)咨詢服務(wù)。目前公司與眾多半導(dǎo)體企業(yè)及科研院所達(dá)成合作，擁有在半導(dǎo)體制造、微組裝領(lǐng)域等經(jīng)驗(yàn)豐富的技術(shù)團(tuán)隊(duì)。螣芯科技產(chǎn)品涵蓋：

封裝檢測(cè)：X-ray 設(shè)備|推拉力測(cè)試機(jī)|氦檢漏儀|外觀檢測(cè)AOI設(shè)備|奧林巴斯顯微鏡等

螣芯電子科技秉承為客戶提供高性價(jià)比技術(shù)產(chǎn)品方案，且不斷優(yōu)化業(yè)務(wù)結(jié)構(gòu)和提升服務(wù)品質(zhì)，持續(xù)為客戶提供高品質(zhì)服務(wù)。

展開(kāi)顯示更多內(nèi)容

貼片機(jī)，鍵合機(jī)，推拉力測(cè)試機(jī)，等離子清洗機(jī)，超掃顯微鏡，X光機(jī)，光刻機(jī)，刻蝕機(jī)等

產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

產(chǎn)地	進(jìn)口

ABM雙面對(duì)準(zhǔn)（BSV）光刻機(jī)ABM350BSV
主要配置: 6”，8”光源系統(tǒng) 可支持2”，3”，4”，6”，8”（圓/方片）及碎片光刻（支持特殊工藝卡盤(pán)設(shè)計(jì)）手動(dòng)系統(tǒng)，半自動(dòng)系統(tǒng), 支持電源350-2000 Watt
支持深紫外近紫外波長(zhǎng)（可選項(xiàng)）<1.84度； CCD或顯微鏡對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)

ABM雙面對(duì)準(zhǔn)（BSV）光刻機(jī) 產(chǎn)品信息

ABM雙面對(duì)準(zhǔn)（BSV）光刻機(jī)

ABM雙面對(duì)準(zhǔn)（BSV）光刻機(jī)ABM350BSV

光學(xué)系統(tǒng)ABM雙面對(duì)準(zhǔn)（BSV）光刻機(jī)ABM350BSV

光學(xué)系統(tǒng)
  曝光時(shí)間調(diào)解器：0.1至999.9秒(可調(diào)節(jié)精度0.1s)；
  365-400nm光強(qiáng)傳感及電源供應(yīng)控制電路及反饋閉環(huán)；
  聲控功率警報(bào)裝置可防止系統(tǒng)功率超過(guò)設(shè)定指標(biāo)；
  有安全保護(hù)裝置的溫度及其氣流傳感器；
  全景準(zhǔn)直透鏡光線偏差半角: <1.84度；
  波長(zhǎng)濾片檢查及安裝裝置；
  抗衍射反射功能高效反光鏡；
  二向色的防熱透鏡裝置；
  防汞燈泄漏裝置；
  配備蠅眼棱鏡裝置；
  配備近紫外光源，
     --220 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 8-10 mW/ cm2
     --254 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 12-14 mW/ cm2
     --365 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 18-20 mW/ cm2
     --400 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 30-35 mW/ cm2

主要配置:
  6”，8”光源系統(tǒng)
  可支持2”，3”，4”，6”，8”（圓/方片）及碎片光刻（支持特殊工藝卡盤(pán)設(shè)計(jì)）
  手動(dòng)系統(tǒng)，半自動(dòng)系統(tǒng),
  支持電源350-2000 Watt
  支持深紫外近紫外波長(zhǎng)（可選項(xiàng)）<1.84度；
  CCD或顯微鏡對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)

主要性能指標(biāo)：:
  光強(qiáng)均勻性Beam Uniformity:
     --<±1% over 2” 區(qū)域
     --<±2% over 4” 區(qū)域
     --<±2.5% over 6” 區(qū)域
  接觸式樣曝光特征尺寸CD（深紫外DUV）：0.35 um
  接觸式樣曝光特征尺寸CD(近紫外NUV）： 0.5 um
  支持接近式曝光，特征尺寸CD:
     --0.8um 硬接觸
     --1um 20 um 間距時(shí)
     --2um 50um 間距時(shí)
  正面對(duì)準(zhǔn)精度±0.5um
  支持正膠、負(fù)膠及Su8膠等的厚膠光刻，特征尺寸：100um-300um
  支持LED優(yōu)異電流控制技術(shù)PSS工藝光刻
  支持真空、接近式、接觸式曝光
  支持恒定光強(qiáng)或恒定功率模式