一、應(yīng)用范圍概述：電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗電子管生產(chǎn)　電子管陰極涂敷碳酸鹽配液顯像管和陰極射線管生產(chǎn)　配料用純水黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)　玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水液晶顯示器的生產(chǎn)　屏面需用純水清洗和用純水配液晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片二、典型工藝流程     預(yù)處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－粗混合床－精混合床－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－精密過(guò)濾器－用水對(duì)象 （≥18MΩ.CM）（傳統(tǒng)工藝）      預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－0.2或0.5μm精密過(guò)濾器－用水對(duì)象（≥18MΩ.CM）（工藝）       預(yù)處理－一級(jí)反滲透－加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）－中間水箱－第二級(jí)反滲透（正電荷反滲膜）－純水箱－純水泵－EDI裝置－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過(guò)濾器－用水對(duì)象（≥17MΩ.CM） （工藝）              預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過(guò)濾器－用水對(duì)象（≥15MΩ.CM）（工藝）          處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－純水泵－粗混合床－精混合床－紫外線殺菌器－精密過(guò)濾器－用水對(duì)象 （≥15MΩ.CM）（傳統(tǒng)工藝）三、達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)  顯像管、液晶顯示器用純水水質(zhì)（經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù)）    集成電路用純水水質(zhì)    國(guó)家電子級(jí)純水標(biāo)準(zhǔn)    美國(guó)SEMI標(biāo)準(zhǔn)四、設(shè)備特點(diǎn)        為滿足用戶需要，達(dá)到符合標(biāo)準(zhǔn)的水質(zhì)，盡可能地減少各級(jí)的污染，延長(zhǎng)設(shè)備的使用壽命、降低操作人員的維護(hù)工作量.在工藝設(shè)計(jì)上，取達(dá)國(guó)家自來(lái)水標(biāo)準(zhǔn)的水為源水，再設(shè)有介質(zhì)過(guò)濾器，活性碳過(guò)濾器，鈉離子軟化器、精密過(guò)濾器等預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床（EDI電除鹽系統(tǒng)）系統(tǒng)等。 系統(tǒng)中水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、水泵均設(shè)有壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測(cè)控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無(wú)人職守，同時(shí)在工藝選材上采用*和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價(jià)比和設(shè)備可靠性。一、純水和高純水水質(zhì)指標(biāo)和使用行業(yè)*：水質(zhì)指標(biāo)*使用行業(yè)電導(dǎo)率≤10μS/CM動(dòng)物飲用水（醫(yī)藥）、普通化工原料配料用水、食品行業(yè)配料用水普通電鍍行業(yè)沖洗用去離子水、紡織印染用除硬脫鹽純水、聚脂切片用純水、精細(xì)化工用水、民用飲用純凈水用水、其它有相同水質(zhì)要求的用水.電導(dǎo)率≤4μS/CM電鍍化學(xué)品生產(chǎn)用水、化工行業(yè)表面活性劑生產(chǎn)用水、科研純化水、白酒生產(chǎn)用純水、啤酒生產(chǎn)用純水、民用飲用純凈水用水、普通化妝品生產(chǎn)用水、血透純水機(jī)用水、其它有相同水質(zhì)要求的用水.電阻率5~10MΩ.CM鋰電池生產(chǎn)用水、蓄電池生產(chǎn)用水、化妝品生產(chǎn)用水、電廠鍋爐用純水、化工廠配料用水、其它有相同水質(zhì)要求的用水.電阻率:10~15MΩ.CM動(dòng)物實(shí)驗(yàn)室用水、玻殼鍍膜沖洗用水、電鍍用純水、鍍膜玻璃用水、其它有相同水質(zhì)要求的用水.電阻率≥15 MΩ.CM醫(yī)藥生產(chǎn)用無(wú)菌水、口服液用水、高級(jí)化妝品生產(chǎn)用去離子水、電子行業(yè)鍍膜用水、光學(xué)材料清洗用水、電子陶瓷行業(yè)用純水、*磁性材料用純水、其它有相同水質(zhì)要求的用水.電阻率≥17 MΩ.CM磁性材料鍋爐用軟化水、敏感新材料用水、半導(dǎo)體材料生產(chǎn)用水、*金屬材料用水、防老化材料實(shí)驗(yàn)室用水、有色金屬，貴金屬冶煉用水、鈉米級(jí)新材料生產(chǎn)用水、航空新材料生產(chǎn)用水、太陽(yáng)能電池生產(chǎn)用水、水晶片生產(chǎn)用水、超純化學(xué)試劑生產(chǎn)用水、實(shí)驗(yàn)室用高純水、其它有相同水質(zhì)要求的用水.電阻率≥18 MΩ.CMITO導(dǎo)電玻璃制造用水、化驗(yàn)室用水、電子級(jí)無(wú)塵布生產(chǎn)用水等其它有相同水質(zhì)要求的用水 二、純水的制取方法：（出水電導(dǎo)率≤10μS/CM） 1、預(yù)處理——>陽(yáng)床——>陰床（全離子交換法）2、預(yù)處理——>RO反滲透（反滲透法）      三、工業(yè)超純水制造工藝：（出水電阻率5~18.2MΩ.CM）  1、預(yù)處理——>陽(yáng)床——>陰床——>混合床 （全離子交換法）  2、預(yù)處理——>反滲透——>混合床        （反滲透+混床法）  3、預(yù)處理——>反滲透——>EDI          （反滲透+EDI法）四、設(shè)備說(shuō)明為滿足用戶需要，達(dá)到符合標(biāo)準(zhǔn)的水質(zhì)，盡可能地減少各級(jí)的污染，延長(zhǎng)設(shè)備的使用壽命、降低操作人員的維護(hù)工作量.在工藝設(shè)計(jì)上，取達(dá)國(guó)家自來(lái)水標(biāo)準(zhǔn)的水為源水，再設(shè)有介質(zhì)過(guò)濾器，活性碳過(guò)濾器，鈉離子軟化器、精密過(guò)濾器等預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床（EDI電除鹽系統(tǒng)）系統(tǒng)等。    系統(tǒng)中水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、水泵均設(shè)有壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測(cè)控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無(wú)人職守，同時(shí)在工藝選材上采用*和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價(jià)比和設(shè)備可靠性。執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：嚴(yán)格執(zhí)行現(xiàn)行的各種水處理標(biāo)準(zhǔn)（生活飲用水標(biāo)準(zhǔn)、實(shí)驗(yàn)室用水標(biāo)準(zhǔn)、電子工業(yè)部高純水標(biāo)準(zhǔn)等），不斷的在工藝設(shè)計(jì)和材料選擇上進(jìn)行改進(jìn)，以滿足先行的各種標(biāo)準(zhǔn)。