真空磁控濺射鍍膜機廣泛應(yīng)用于家電電器、鐘表、燈具、工藝美術(shù)品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表面裝飾性鍍膜及工模具的功能涂層。所謂“濺射”就是用荷能粒子(通常用氣體正離子)轟擊物體,從而引起物體表面原子從母體中逸出的現(xiàn)象,早在1842年Grove在實驗室中就發(fā)現(xiàn)了這種現(xiàn)象。磁控濺射靶采用靜止電磁場,磁場為曲線形,均勻電場和對數(shù)電場則分別用于平面靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用下,加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞,若電子具有足夠的能量(約為30ev)時,則電離出Ar+并產(chǎn)生電子,電子飛向基片,Ar+在電場作用下,加速飛向陰極(濺射靶)并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。