主要用途
是生產(chǎn)各種金屬膜電阻及氧化膜電阻的設(shè)備，可以完成高、中、低不同阻值的鍍膜工藝。

主要組成
設(shè)備由真空室、真空機(jī)組、直流濺射源、射頻濺射源、分流式滾筒、充氣裝置、真空測量及其它輔助裝置等組成。

主要特點(diǎn)
★生產(chǎn)能力大，根據(jù)型號的不同，每爐可鍍制裝載量達(dá)分別為10～11Kg、20～25Kg、30～40Kg左右的瓷體。
★磁控濺射源工作特性穩(wěn)定可靠，沉積速率高，陰極體采用可變磁場，大大提高了靶材的利用率，在40%以上。
★根據(jù)不同電阻值和工藝要求配置不同濺射源，工藝適應(yīng)性強(qiáng)。如配置射頻濺射源可鍍制介質(zhì)膜，配備離化源可鍍制氧化膜。
★采用特殊分流式滾筒，瓷體鍍制膜層均勻，阻值集中。
★如配用PLC可編程控制，設(shè)備自動化水平提高，性能更加可靠，操作更為簡便。
★調(diào)節(jié)沉積室的氣氛可控沉積膜的阻值和TCR（溫度系數(shù)）；鍍制后電阻在合適的“后調(diào)整”熱處理后TCR可接近于零。

溫州市佳能真空電鍍設(shè)備科技有限公司是一家以真空鍍膜設(shè)備為主營業(yè)務(wù)，集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、服務(wù)于一體的綜合性高科技環(huán)保型企業(yè)。佳能真空既是設(shè)備制造商，也是鍍膜工藝的開發(fā)商，可為客戶提供整套設(shè)備、工藝流程的設(shè)計以及技術(shù)人員的培訓(xùn)。

公司擁有一支技術(shù)精良的研發(fā)團(tuán)隊，并聘請國內(nèi)外多位專家為技術(shù)顧問，具備較強(qiáng)的自主研發(fā)能力，現(xiàn)已研發(fā)制造連續(xù)式磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線、平面矩形弧工具鍍膜機(jī)、多功能中頻磁控濺射多弧復(fù)合離子鍍膜機(jī)、中頻磁控濺射鍍膜機(jī)、多弧離子鍍膜機(jī)、光學(xué)鍍膜機(jī)以及真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)等系列真空鍍膜設(shè)備。佳能真空多年來憑著優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和周到的售后服務(wù)，深受業(yè)內(nèi)人士的好評，并已通過ISO9001質(zhì)量管理體系認(rèn)證。

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