Z理想的膏體生產設備-CIK可傾真空均質乳化機

時間：2017/3/29閱讀：2523

遮瑕膏可視作為粉底的一種。不同之處在于遮瑕膏比普通粉底具有更佳的遮蓋力，且更貼合肌膚，持久不易脫妝。每個人的臉上都會有這樣那樣的瑕疵，例如：黑眼圈、色斑、痘疤、局部性的斑點、痘痘、微血管等等，運用遮瑕膏能的解決這些問題，還能讓你的膚色迅速變得均勻、細致，還能持久地為彩妝加分，令你自信，無懼迎向挑剔的眼光，質地越豐潤的遮瑕膏，遮瑕效果越出眾。

針對這類基質粘度大，且固料含量比較高的膏類產品，切可（上海）機械設備有限公司引進*科技開發(fā)出CK-ME可傾真空均質乳化機，本機組由預處理鍋、真空乳化攪拌鍋、真空泵、液壓系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)，工作平臺等部分組成，本機組操作簡便、性能穩(wěn)定、均質性能號、生產率高、清洗方便、結構合理、占地面積少、自動程度化高等特點。

設備優(yōu)點：

1、采用上部同軸三重攪拌器，液壓升降開蓋；

2、攪拌器轉速都是變頻調控，快速均質攪拌器轉速為0-3500r/min，慢速刮壁攪拌器轉速為0-63r/min，均質器采用高剪切渦流式乳化攪拌機，慢速刮壁自動緊貼鍋底及鍋壁。

3、真空吸料，特別對粉體物料利用真空吸入避免粉塵飛揚。

4、整個工序在真空條件下進行，防止物料在高速攪拌后產生氣泡，能達到衛(wèi)生無菌要求；

5、本系統(tǒng)配有CIP信息系統(tǒng)，容器與物料接觸部分采用SUS316L材料制造、內表面鏡拋光300EMSH；

6、為了提高設備的品質，真空泵及電器控制部分采用德國納西姆公司產品，變頻器采用日本松下電工；

7、本機組*符合GMP要求制造，是國內的膏類生產設備。

主要技術參數(shù)：

型號	有效容量	乳化馬達		攪拌馬達		外形尺寸				總功率
型號	有效容量	KW	r/min	KW	r/min	長	寬	高	全高	電加熱	蒸汽加熱
CK-ME-20	20	0.75	0-3000	0.37	0-40	1800	1600	1850	2700	9	3
CK-ME-50	50	2.2	0-3000	0.37	0-40	2700	2000	2015	2700	25	5
CK-ME-100	100	3	0-3000	1.5	0-40	2920	2120	2200	3000	27	9
CK-ME-150	150	3	0-3000	1.5	0-40	3110	2120	2200	3100	27	9
CK-ME-200	200	4	0-3000	1.5	0-40	3150	2200	2200	3100	40	12
CK-ME-350	350	4	0-3000	2.2	0-40	3650	2650	2550	3600	50	16
CK-ME-500	500	5.5	0-3000	2.5	0-40	3970	2800	2700	3950	50	16
CK-ME-1000	1000	11	0-3000	4	0-40	3900	3400	3150	4550	100	30
CK-ME-2000	2000	15	0-3000	7.5	0-40	4850	4300	3600	不帶升降	120	50

售前與售后服務:

1.所有由我公司提供的設備，我們將負責安裝調試驗收至產品合格、設備正常驗收，進入生產；

2.親自上門提供正常的設備操作培訓，為需方培訓多名工程技術人員，全面掌握生產工藝、設備日常維護、故障及生產管理；

3.所提供設備培訓均保修一年(在保修期內除需方因操作不當造成的原因外，所有因設備維修所發(fā)生的維修費用均由我公司負責 )

4.我公司在接到維修報告后，無特殊情況，本市多十小時，全國多四十八小時到達現(xiàn)場；

5.終身維護，在保質期外，如有設備故障，我公司可派人來服務，維修零配件和其他不高于市場價格；

6.我公司將長期為顧客提供的制造工藝、技術革新、市場動態(tài)等同類行業(yè)的情報信息；

7.購買設備前我們將提供咨詢支持，也歡迎前來參觀我們的工廠。

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