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深圳海納光學有限公司

主營產(chǎn)品: 激光護目鏡,可飽和吸收鏡,衍射光學元件,光束整形器,太赫茲透鏡,太陽能模擬器,太赫茲相機,激光測量儀,離軸拋物面鏡,微透鏡陣列

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公司信息

聯(lián)人:
劉先生
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深圳市龍崗區(qū)平湖街道華南城一號館五樓C
編:
518111
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http://www.niunang.cn/st158075/
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CIMAPhoton ect高光譜成像儀,顯微鏡
Photon ect高光譜成像儀,顯微鏡
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號 CIMA
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質 代理商
  • 所在地 深圳市

聯(lián)系方式:劉先生查看聯(lián)系方式

更新時間:2021-08-09 17:57:48瀏覽次數(shù):1014

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【簡單介紹】
空間分辨率(IFOV) 1mrad 幀頻 1fps
產(chǎn)品類別 高光譜儀/高光譜成像儀 成像方式 三維
成像分辨率 1 工作原理 其他
光譜范圍 1nm 光譜分辨率 1nm
使用狀態(tài) 機載/地面均可 視場(TFOV)
Photon ect高光譜成像儀,顯微鏡可提供可見光和短波紅外范圍(400-1700nm)的光譜和空間信息,因此也是一種高光譜成像顯微鏡,該CIMA高光譜共聚焦成像系統(tǒng)的光學分辨率在可見光范圍可低至0.2 nm,在紅外范圍可低至0.6 nm。高光譜共聚焦顯微鏡搭配了市場上快速、靈敏的相機,獲得300波長/秒的信息,組成了高效的高光譜顯微成像系統(tǒng),該高光譜顯微鏡本質上是一種高光譜成

CIMA高光譜共聚焦顯微鏡,400-1700nm,超高光學分辨率<0.6nm

加拿大Photon ect生產(chǎn)的CIMA高光譜共聚焦成像系統(tǒng)可提供400-1700nm范圍內(nèi)的光譜和空間信息,這種高光譜共聚焦顯微鏡搭配靈敏的相機,可獲得300波長/秒的信息,因此CIMA高光譜共聚焦顯微鏡本質上是一種高光譜顯微成像系統(tǒng)


加拿大Photon ectCIMA高光譜共聚焦成像系統(tǒng)規(guī)格:

光譜范圍

400-1700nm

光譜分辨率

VIS

<0.2 nm(可根據(jù)要求定制)

IR

<0.6 nm(可根據(jù)要求定制)

空間分辨率

受衍射極限限制

相機

背感光式CCD

InGaAs線性陣列

激發(fā)波長

980nm(可選其他波長)

3個激光輸出口

UHP 130W汞燈

顯微鏡特點

科研級別,可反向放置

物鏡

20×,40×,60×

50×,100×

其他規(guī)格可定制

波長分辨率精度

>300波長/

~100波長/

XZY機械平臺尺寸

120×75×0.15mm

數(shù)據(jù)處理

空間濾波,數(shù)據(jù)統(tǒng)計,光譜提取,數(shù)據(jù)歸一化,光譜標定

高光譜數(shù)據(jù)格式

HDF5,FITS

軟件配置

電腦(Windows 10-64 bits,PHySpec™控制分析軟件(含電腦)

電源配置

120VAC/12A/60Hz、230VAC/12A/50Hz

共聚焦模式

掃描速度:300um×300um20×物鏡)、100um×100um60×物鏡)

電源配置:120VAC/12A/60Hz、230VAC/12A/50Hz

試管模式

試管尺寸:標準10mm×10mm3.5mL

熒光模式

相機:用于熒光和樣品可視化的百萬像素彩色相機

照明燈:UHP 130W汞燈

高達6種濾波管


Photon ect的高光譜成像顯微鏡特點和優(yōu)點:

-包含可見光、近紅外、短波長紅外范圍(400-1400nm

-成像效率高

-光學分辨率<0.6nm

-科研級別的顯微鏡,可正放或倒放

-物鏡為20×,40×,60×或50×,100×,還可根據(jù)需求定制


Photo ect的高光譜成像顯微鏡應用:

-進行復雜納米材料的空間分布和光譜特性的同步研究,例如上轉換納米顆粒和量子點

-進行體外或體內(nèi)高分辨率高光譜顯微鏡檢查

-開發(fā)基于熒光信號隨環(huán)境變化的光譜漂移的新型傳感器


高光譜顯微鏡的光學分辨率在可見光范圍可低至0.2 nm,在紅外范圍可低至0.6 nm,也可根據(jù)要求定制。高光譜成像顯微鏡VIS系列搭配背感光式CCD相機,高光譜成像顯微鏡IR系列搭配InGaAs線性陣列相機,屬于科研級別的高光譜顯微成像系統(tǒng),可以倒置。

CIMA高光譜共聚焦顯微鏡提供三種采集模式共聚焦模式、試管模式、熒光模式。光源為UHP 130W汞燈,激發(fā)波長為980nm(可選其他波長),包含3個激光輸出口。

高光譜成像顯微鏡可作為研究鑭系分子單晶體光學各向異性的工具,如下圖顯示了高光譜成像儀對鑭系單晶體分子的高光譜分析過程。目標1顯示了圖2中選擇的波長,圖3顯示了613.26nm在水平、豎直方向的強度剖析圖,圖4顯示了在目標5、目標6、目標9中提取的發(fā)射波長。

1.png

CIMA高光譜共聚焦成像系統(tǒng)可用于加快或降低稀土摻雜LiYF4微粒的微波輔助溶劑熱合成過程的分析。左下圖(A) 代表高光譜成像儀對Yb3+/Tm3+單微粒光致發(fā)光的圖像研究,右下圖(B)代表 Yb3+/ Er3+單粒子光致發(fā)光研究。目標1顯示了從目標2提取的高光譜轉換發(fā)射光譜圖像。在目標2的光譜假色圖像中,顏色越亮則強度越大,顏色越弱強度越小。在目標3中顯示了被研究的微粒大小尺寸對比。

2.png

Photon ect高光譜成像儀,顯微鏡

Photon ect高光譜成像儀,顯微鏡



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