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涿州市優(yōu)威圣威爾科技發(fā)展有限公司
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更新時(shí)間：2017-07-11 11:20:13瀏覽次數(shù)：764次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自 環(huán)保在線光清洗燈／UV光清洗燈／紫外光清洗燈／UV燈
光清洗燈／UV光清洗燈／紫外光清洗燈／UV燈
隨著光電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，清洗工藝在光電產(chǎn)品中是*的工藝，清洗對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量、精度、外觀等方面的影響也越來越重要。目前國(guó)外廣泛使用的清洗方法是紫外（UV）光清洗，它一方面能避免由于使用有機(jī)溶劑造成的污染，同時(shí)能夠?qū)⑶逑催^程縮短。
一、紫外光清洗的工作原理：
光清洗技術(shù)是利用有機(jī)化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除黏附在材料表面上的有機(jī)物質(zhì)，經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達(dá)到"原子清潔度"。
更詳盡的講：UV光源發(fā)射波長(zhǎng)為185nm和254nm的光波，具有很高的能量,當(dāng)這些光子作用到被清洗物體表面時(shí),大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?duì)185nm波長(zhǎng)的紫外光具有較強(qiáng)的吸收能力,吸收185nm波長(zhǎng)的紫外光的能量后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子。
空氣中的氧氣分子在吸收了185nm波長(zhǎng)的紫外光后也會(huì)產(chǎn)生臭氧和原子氧。臭氧對(duì)254nm波長(zhǎng)的紫外光同樣具有強(qiáng)烈的吸收作用,臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是極活潑的,在它作用下,物體表面上的碳和碳?xì)浠衔锏姆纸馕锟苫铣煽蓳]發(fā)的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表面，從而*清除了黏附在物體表面上的碳和有機(jī)污染物。
二、光清洗的特點(diǎn)：
1、可在空氣中進(jìn)行并且在清洗后不必進(jìn)行干燥。
2、可*清除物體表面的碳和有機(jī)污染物。
3、無溶劑揮發(fā)及廢棄溶劑的處理問題。
4、保證產(chǎn)品的高可靠性和高成品率。
5、產(chǎn)品表面清洗處理的均勻度*。
6、由于光清洗是通過光敏、氧化反應(yīng)去除物體表面的碳和有機(jī)化合物，所以容易發(fā)生氧化的表面不宜用光清洗方法，只適對(duì)表面污垢清洗、不適對(duì)污垢量較多，無機(jī)類污垢清洗。
三、光清洗的技術(shù)應(yīng)用范圍：
主要在液晶顯示器件、半導(dǎo)體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料等生產(chǎn)過程中采用光清洗方法zui為合適。
主要材料：Ito玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理。
可以去除污垢：有機(jī)性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤(rùn)滑油、殘余的光刻膠等。
此UV光源在LCD工藝中又具有UV改質(zhì)（紫外光表面質(zhì)變）的特點(diǎn)，目前在液晶顯示器STN的生產(chǎn)過程中，主要是用在膜處理技術(shù)上，對(duì)于改善膜與膜之間的密接是非常有效的，如ITO膜與感光膠膜層，TOP涂層與PI涂層等等。另在研究部門又可用來UV改性塑料材料產(chǎn)品，用于納米技術(shù)研究，產(chǎn)品經(jīng)此UV光照射發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，使產(chǎn)品表面性質(zhì)改變。STN-LCD、彩色濾光片及OLED的制作過程中，有些制程設(shè)備相當(dāng)雷同，差別在于制造工藝要求的不同。
隨著線路的精細(xì)化及產(chǎn)品的彩色比，LCD產(chǎn)業(yè)對(duì)制造工藝的要求也不斷地提升，而有"工欲善其事，必先利其器"之需求，因此只有設(shè)備能力不斷地精進(jìn)，才能提高生產(chǎn)的質(zhì)與效率。
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