測(cè)量技術(shù)與儀器涉及所有物理量的測(cè)量，對(duì)于材料、工程科學(xué)、能源科學(xué)關(guān)系密切。目前的發(fā)展趨勢(shì)有以下幾點(diǎn)：
　　
　　1以自然基準(zhǔn)溯源和傳遞，同時(shí)在不同量程實(shí)現(xiàn)比對(duì)。如果自己沒有能力比對(duì)就要依靠其它國(guó)家。
　　
　　2高精度。目前半導(dǎo)體工藝的典型線寬為0.25μm，并正向0.18μm過渡，2009年的預(yù)測(cè)線寬是0.07μm。如果定位要求占線寬的1/3，那么就要求10nm量級(jí)的精度，而且晶片尺寸還在增大，達(dá)到300mm。這就意味著測(cè)量定位系統(tǒng)的精度要優(yōu)于3×10的－8次方，相應(yīng)的激光穩(wěn)頻精度應(yīng)該是10的－9次方數(shù)量級(jí)。
　　
　　3高速度。目前加工機(jī)械的速度已經(jīng)提高到1m/sec以上，上世紀(jì)80年代以前開發(fā)研制的儀器已不適應(yīng)市場(chǎng)的需求。例如惠普公司的干涉儀市場(chǎng)大部分被英國(guó)Renishaw所占領(lǐng)，其原因是后者的速度達(dá)到了1m/sec。
　　
　　4高靈敏，高分辨，小型化。如將光譜儀集成到一塊電路板上。
　　
　　5標(biāo)準(zhǔn)化。通訊接口過去常用GPIB、RS232，目前有可能成為替代物的高性能標(biāo)準(zhǔn)是USB、IEEE1394和VXI?，F(xiàn)在，技術(shù)者設(shè)法控制技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)，參與標(biāo)準(zhǔn)制訂是儀器開發(fā)的基礎(chǔ)研究工作之一。
　　
　　我國(guó)儀器科技的發(fā)展現(xiàn)狀
　　
　　（1）由于長(zhǎng)期習(xí)慣于仿制國(guó)外產(chǎn)品，我國(guó)的儀器儀表工業(yè)缺乏創(chuàng)新能力，跟不上科學(xué)研究和工程建設(shè)的需要。
　　
　　（2）我國(guó)儀器科學(xué)與技術(shù)研究領(lǐng)域積累了大量科研成果，許多成果處于水平，有待篩雪提高和轉(zhuǎn)化，但產(chǎn)業(yè)化程度很低，沒有形成具有競(jìng)爭(zhēng)力的完整產(chǎn)業(yè)。