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伯東進(jìn)口離子蝕刻機(jī)

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更新時(shí)間：2015-06-24 15:54:41瀏覽次數(shù)：547次

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  離子刻蝕機(jī)

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伯東企業(yè)（上海）有限公司

經(jīng)營模式：代理商

商鋪產(chǎn)品：32條

所在地區(qū)：上海上海市

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產(chǎn)品簡介

伯東進(jìn)口離子蝕刻機(jī),NS 產(chǎn)品包含小型離子蝕刻用于研究分析和大型離子蝕刻系統(tǒng)用于生產(chǎn)制造。離子蝕刻系統(tǒng)對(duì)磁性材料、黃金、鉑和合金金屬提供Z佳蝕刻技術(shù).它很容易做各種材料的蝕刻.

詳細(xì)介紹

上海伯東Hakuto(NS) 離子蝕刻系統(tǒng):
NS 產(chǎn)品包含小型離子蝕刻用于研究分析和大型離子蝕刻系統(tǒng)用于生產(chǎn)制造。離子蝕刻系統(tǒng)對(duì)磁性材料、黃金、鉑和合金金屬提供*蝕刻技術(shù).它很容易做各種材料的蝕刻.
離子蝕刻系統(tǒng)主要應(yīng)用：
薄膜磁頭 (Thin film Magnetic Head).
自旋電子學(xué) (Spintronics)
MR Sencer
微電子機(jī)械系統(tǒng) (MEMS Micro-electromechanical Systems)
射頻設(shè)備 (RF Devices)
光學(xué)組件 (Optical Component)
超導(dǎo)電性 (Super Conductivity)

產(chǎn)品包含如下三種：
10 IBE (10cm 離子源)
小型整合離子束適合研究使用
8cm 或 10cm 考夫曼離子源
基片尺寸：直徑 4英寸 X 1片
單一直接冷卻平臺(tái)

20IBE-C（20cm 離子源）
離子束蝕刻系統(tǒng)適合生產(chǎn)制造
20cm 考夫曼離子源
基片尺寸：
直徑 3英寸 X 8片
直徑 4英寸 X 6片
直徑 6英寸 X 4片
圖形線路化，蝕刻均勻性佳

20IBE-J (20cm 離子源)
大型離子束蝕刻系統(tǒng)
20cm 考夫曼離子源
基片尺寸：
直徑 4英寸 X 12片
直徑 5英寸 X 10片
直徑 6英寸 X 8片
圖形線路化，蝕刻均勻性佳

若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論，請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式：

上海伯東：葉              中國臺(tái)灣伯東：王
T: +86-21-5046-3511 ext 109         T: +886-03-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                      F: +886-03-567-0049
M: +86 1391-883-7267          M: +886-939-653-958