一、 EDI超純水設(shè)備概述 30多年來(lái),混床離子交換技術(shù)一直作為一種去離子的工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。由于其需要周期性的再生且再生工程中使用大量的化學(xué)藥品(酸堿)和純水,因此已很難滿足于無(wú)酸的超純水系統(tǒng)。EDI超純水系統(tǒng)的出現(xiàn)解決了這一系列水處理難題。
二、 EDI的工作原理 EDI(Electrodeionization)是利用離子交換樹(shù)脂來(lái)去除水中的離子。在EDI設(shè)備中,進(jìn)水中的各種離子通過(guò)樹(shù)脂層交換后被脫除,水得到了純化。此時(shí)是利用離子交換原理脫除水中的離子。由于膜對(duì)兩邊加有電壓,水分被電解為氫氧根和氫離子去再生樹(shù)脂,同時(shí),被氫離子和氫氧根離子交換下的離子在電流的作用下,被遷移至濃水室而排放,從而實(shí)現(xiàn)連續(xù)再生連續(xù)使用的目的。水在EDI模塊中的純化過(guò)程如下:
1) 進(jìn)水分布EDI模塊中各室。
2) 在直流電作用下各種離子,向各自相應(yīng)電極遷移。
3) 與混床一樣,水中的各種離子被離子交換樹(shù)脂所交換,然后被交換的離子通過(guò)各自相應(yīng)的離子交換膜遷移到濃水室中。淡水室中的水流出EDI模塊(只有離子可通過(guò)離子交換膜,而水不能通過(guò))而成淡水。
4) 濃水室中的濃水循環(huán)。為提高和維持濃水室的電導(dǎo),大部分濃水進(jìn)行循環(huán)。
5) 循環(huán)的濃水需少部分排放,由進(jìn)水補(bǔ)充。此部分排放濃水可返回至前級(jí)RO裝置,重復(fù)使用。
6) 水分子在電壓作用下被電離為氫離子和氫氧根離子,通過(guò)各自相應(yīng)的離子交換膜遷移到樹(shù)脂層,連續(xù)再生樹(shù)脂。
三、EDI高純水制取設(shè)備與傳統(tǒng)混床技術(shù)相比的優(yōu)點(diǎn) 連續(xù)運(yùn)行,產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定;無(wú)許用酸堿再生;不會(huì)因再生而停機(jī);節(jié)省了反洗和清洗用水;產(chǎn)水率高達(dá)95%;無(wú)再生污水,無(wú)須污水處理設(shè)施;無(wú)須酸堿儲(chǔ)備和稀釋設(shè)備;占地面積??;使用安全,避免工人接觸酸堿。投資僅為離子交換的30%。運(yùn)行成本僅為離子交換的65%。
1、無(wú)化學(xué)污染。 2、可連續(xù)再生; 3、啟動(dòng)/操作方便; 4、模塊更換方便; 5、產(chǎn)水純度更高; 6、回收率更高; 7、占地面積更??; 8、節(jié)約成本。 | |
四、EDI超純水設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域 1. 半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路;
2. 超純材料和超純化學(xué)試劑;
3. 實(shí)驗(yàn)室和中試車(chē)間;
4. 汽車(chē)、家電表面拋光處理;
5. 其他高科技精微產(chǎn)品。
五、EDI模塊的進(jìn)水要求及性能參數(shù) 進(jìn)水總鹽量(CaCO3計(jì)) | <25ppm或50μs>25ppm或50μs> | TOC | <> |
PH值 | 5.0~9.0 | 余氯 | <> |
硬度(CaCO3計(jì)) | <> | Fe、Mn、H2S | <> |
可溶硅 | <> | 工作溫度 | 5~40℃ |
工作壓力 | 1.0~2.0bar | 工作壓差 | 0.4~1.0bar |
水利用率 | >95% | 產(chǎn)水水質(zhì) | >8.0MΩ.cm |