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zeiss 分析型掃描電鏡 EVO 18

EVO 18 是一款具有處理各種材料能力的分析型顯微鏡，為您提供優(yōu)異的成像品質(zhì)。

標(biāo)配能譜儀和波譜儀（EDS & WDC）接口，另有用于高級(jí)形貌與化學(xué)分析的全集成式顆粒分析和識(shí)別解決方案可供選擇。通過(guò)升級(jí)LaB6高亮度光源將與X射線分析相關(guān)的探針電流性能提升至一個(gè)全新的水準(zhǔn)。

EVO 18 掃描電鏡的五象限背散射電子探測(cè)器（BSE）有助于增強(qiáng)低電壓性能及提供更豐富的形態(tài)信息。對(duì)于非導(dǎo)電樣品，電子束襯管技術(shù)可有效提高分辨率。

EVO 18 Research 是學(xué)術(shù)和研究機(jī)構(gòu)使用的一款分析型掃描電子顯微鏡。EVO 18 Research 為您提供優(yōu)異的成像品質(zhì)，具有處理多種材料的能力。結(jié)合SmartSEM 軟件的易用性，使其成為多種研究應(yīng)用的合適之選，范圍涵蓋半導(dǎo)體和電子技術(shù)、地質(zhì)科學(xué)及材料研究。

產(chǎn)品特點(diǎn)

• 業(yè)內(nèi)*的X射線幾何結(jié)構(gòu)以及標(biāo)配能譜儀和波譜儀（EDS & WDS）
• 五象限背散射電子探測(cè)器（BSE）為您提供更豐富的形態(tài)信息
• 可變電壓功能用于分析較少制備的非接觸式樣品
• 可移動(dòng)的顯微鏡樣品臺(tái)用于觀察大型樣品
• 配備鎢光源和可供選擇的LaB₆ 光源
• 優(yōu)質(zhì)的生產(chǎn)工藝，曾榮獲2011年英國(guó)電子電氣工廠獎(jiǎng)以及歐特克產(chǎn)品與工藝大獎(jiǎng)

利用BSE探測(cè)器在5象限對(duì)濾紙的成像

技術(shù)參數(shù)

分辨力	3 nm (2 nm) @ 30 kV SE and W (LaB6)
	4 nm @ 30 kV VP mode
	20 nm (9 nm) @ 1 kV SE and W (LaB6)
電壓	0.2 -30 kV
探針電流	0.5 pA to 5 μA
放大倍率	< 5 - 1,000,000x
視野	分析工作距離（AWD）為6 mm
X射線幾何	8.5 mm AWD和35°起飛角
OptiBeam模式	分辨率，深度，分析，魚(yú)眼領(lǐng)域
壓力范圍	10 – 400 Pa
可用的探測(cè)器	ETSE - Everhart-Thornley二次電子探測(cè)器（標(biāo)配）
	BSD - 五段二極管背向散射電子探測(cè)器（標(biāo)配）
	VPSE - 可變壓力二次電子探測(cè)器
	SCD - 試樣電流檢測(cè)器
	EDS - 能量色散譜儀
	WDS - 波長(zhǎng)色散光譜儀
	CL - 陰極發(fā)光檢測(cè)器
	STEM - 掃描透射電子顯微鏡檢測(cè)器
工作室尺寸	365毫米（Ø）x 275毫米（高）
5軸電動(dòng)試樣臺(tái)	X = 125 mm，Y = 125 mm Z = 50 mm電動(dòng)（樣品高度延伸至145 mm，在Z軸，傾斜和旋轉(zhuǎn)模塊已移除的情況下） T = -10 to 90°，R = 360°（連續(xù)）通過(guò)鼠標(biāo)，操縱桿或控制面板控制工作臺(tái)
未來(lái)的可升級(jí)路徑選項(xiàng)	BeamSleeve
圖像幀庫(kù)	分辨率：掃描速度為2或更高時(shí)，可達(dá)32k x 24k
圖像幀庫(kù)	通過(guò)積分平均法來(lái)獲取信號(hào)
圖像顯示	高清晰屏幕
圖像顯示	具有雙通道顯示功能
系統(tǒng)操作	SmartSEM ** GUI由鼠標(biāo)和鍵盤(pán)操作
系統(tǒng)操作	多語(yǔ)言Windows®操作系統(tǒng)
實(shí)用需求	100 - 230 V，50或60 Hz單相
	無(wú)需水冷
	操縱桿、鍵盤(pán)、美國(guó)控制面板和鼠標(biāo)