在電子工業(yè)純水處理設(shè)備的運行中，我們不僅要知道電子工業(yè)純水處理設(shè)備怎么使用，還要知道怎樣對設(shè)備進行運行維護，這樣才能使電子工業(yè)純水處理設(shè)備使用的時間更長，那么電子工業(yè)純水處理設(shè)備運行中的維護方法是什么呢?

1、防止細菌滋生：針對細菌滋生的問題，可以在超濾系統(tǒng)前端投加次氯酸鈉藥劑，在超濾系統(tǒng)中殺死細菌，并在出水中留用余氯，抑制細菌滋生，也可以在原水中投加非氧化性殺菌劑以殺死細菌。但水中留用的余氯會損害反滲透膜，所以還需要在反滲透膜前端投加還原劑以消除余氯。

2、鈣、鎂等離子結(jié)垢：針對鈣、鎂等離子結(jié)垢的問題，可以在反滲透前端投加阻垢劑，阻垢劑和還原劑均需從專業(yè)藥劑廠家購買，阻垢劑、還原劑的濃度根據(jù)進水水質(zhì)進行調(diào)節(jié)。

3、化學清洗：在反滲透膜運行一段時間后，膜內(nèi)會滋生細菌以及結(jié)垢，影響反滲透膜的產(chǎn)水量和脫鹽率，所以定期需要對反滲透膜進行化學清洗?；瘜W清洗包括堿洗和酸洗，堿洗的作用是去除反滲透膜中的細菌等有機污染，酸洗的作用是去除反滲透膜中的無機污染和金屬氧化物。每次堿洗和酸洗的配藥濃度約為2.5%，堿洗劑和酸洗劑均需從專業(yè)藥劑廠家購買。對于重度污染的膜需要堿液和酸液的反復清洗，將反滲透中污染物質(zhì)去除。藥劑在清洗過程中采用沖擊加浸泡的循環(huán)方式，通過加藥泵向反滲透中加藥1 h后停止運行加藥泵，關(guān)閉化學清洗的加藥和出藥閥門，將藥劑留在反滲透膜內(nèi)浸泡，浸泡2 h后，打開閥門，啟動泵，循環(huán)沖擊和浸泡。在堿洗過程中，因為殺死微生物會產(chǎn)生大量泡沫，應(yīng)及時清理，避免造成泡沫飛濺。

4、低壓沖洗：在線低壓沖洗是將濃水排水閥門、產(chǎn)水排水閥門及低壓沖洗進水閥門同時打開，通過啟動低壓沖洗泵，使水流在反滲透膜管內(nèi)產(chǎn)生紊流，沖洗膜表面的鹽分和污染物，再通過排放水閥門排走。低壓沖洗使用反滲透的產(chǎn)水作為沖洗水，避免產(chǎn)生二次污染。低壓沖洗在系統(tǒng)中被設(shè)置為常規(guī)操作，在開機和停機的過程中進行1次，可設(shè)置成每d的例行操作，定期進行沖洗。低壓沖洗的壓力、流量和時間都洗效果有影響。流量一般大于運行流量，應(yīng)避免流量過大，使鹽分擁堵在膜內(nèi)。運行壓力一般以產(chǎn)水為準，不需要施加過大壓力。操作時間為5～10 min。

   上述內(nèi)容就是對電子工業(yè)純水處理設(shè)備運行中的維護方法是什么的介紹了，在使用過程中一定不要忽視了對設(shè)備的維護。