光催化氧化處理設(shè)備的使用高能高臭氧UV紫外線光束分化空氣中的氧分子發(fā)作游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子聯(lián)系，進(jìn)而發(fā)作臭氧。
光催化氧化處理設(shè)備性能特點(diǎn)
1、對(duì)工況適應(yīng)能力強(qiáng)；
2、常壓下經(jīng)行，故安全，無隱患；
3、運(yùn)行維護(hù)費(fèi)用低；
4、效率高，能去揮發(fā)性有機(jī)污染物，完達(dá)標(biāo)排放；
5、全自動(dòng)PLC控制，操作方便。通過變頻調(diào)節(jié)，可滿足不同生產(chǎn)條件下使用，達(dá)到節(jié)能目的。
光催化氧化處理設(shè)備工作條件：
設(shè)備工作是氣體環(huán)境溫度在攝氏60℃以下、濕度在90%以下、無固體粉塵，處理的成分應(yīng)當(dāng)只是氣體，滿足以上三個(gè)條件時(shí)可以達(dá)到佳的凈化效果，如濕度及溫度過高需作預(yù)處理，在廢氣處理過程中不可有固體粉塵及大量水蒸汽進(jìn)入設(shè)備，這樣會(huì)直接影響除臭效果，甚至沒有效果，光催化氧化停留時(shí)間控制在合理范圍之內(nèi)。
光催化氧化處理設(shè)備除臭效果和除臭效率：
能夠去除各種有機(jī)廢氣如烴類、醛類、酚類、醇類、硫醇類、苯類、氨類、氮氧化物、硫化物以及其它VOC類有機(jī)物及無機(jī)物。對(duì)原子有機(jī)物如鹵代烴、染料、含氮有機(jī)物、有機(jī)磷殺蟲劑也有很好的去除效果，只要達(dá)到一定的反應(yīng)時(shí)間和反應(yīng)環(huán)境配比即可達(dá)到*氧化，可以說氫氧自由基的氧化對(duì)象幾乎沒有選擇性，能跟任何 現(xiàn)有物質(zhì)反應(yīng)。除臭凈化效果可達(dá)96%以上。
光催化氧化處理設(shè)備適用范圍
1、揮發(fā)性有機(jī)物的凈化處理。
2、涉及采油(氣)田、污水處理廠、垃圾處理場(chǎng)、煉油廠、塑料廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、家具廠、噴漆房、烤漆房等產(chǎn)生的多種高濃度惡臭氣體和工業(yè)廢氣治理工程。
3、烤漆房漆霧uv光解凈化、烤漆房漆霧uv光解、烤漆房uv光氧化廢氣處理、垃圾房uv光解除臭機(jī)。
