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韋氏納米系統(tǒng)（深圳）有限公司
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韋氏納米系統(tǒng)（深圳）有限公司
| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號ALD-4000
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)代理商
所 在 地深圳市
聯(lián)系方式：劉先生查看聯(lián)系方式
更新時間：2018-09-25 10:21:35瀏覽次數(shù)：673次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線上市時間：2017年2月
ALD-4000是一款獨(dú)立的PC計(jì)算機(jī)控制的ALD原子層沉積系統(tǒng)，帶Labview軟件，具備四級密碼控制的用戶*保護(hù)功能
原子層沉積技術(shù)
原子層沉積系統(tǒng)：原子層沉積是一項(xiàng)沉積薄膜的重要技術(shù)，具有廣泛的應(yīng)用。ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會帶來影響，所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應(yīng)將會帶來非統(tǒng)計(jì)的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無孔的特性，可以提供的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實(shí)現(xiàn)到大基片上。
原子層沉積系統(tǒng)應(yīng)用：
高介電薄膜
疏水涂層
鈍化層
深硅刻蝕銅互連阻擋層薄膜
微流控臺階涂層
用于催化劑層的單金屬涂層的燃料電池
ALD-4000原子層沉積系統(tǒng)特點(diǎn)：
獨(dú)立的PC計(jì)算機(jī)控制的ALD原子層沉積系統(tǒng)
Labview軟件，具備四級密碼控制的用戶*保護(hù)功能
安全互鎖設(shè)計(jì)，強(qiáng)大的靈活性，可以用于沉積多種薄膜（如：AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等）
12”的鋁質(zhì)反應(yīng)腔體，帶有加熱腔壁和氣動升降頂蓋
多7個50ml的加熱汽缸，用于前驅(qū)體以及反應(yīng)物，同時帶有N2或者Ar作為運(yùn)載氣體的快脈沖加熱傳輸閥
ALD-4000原子層沉積系統(tǒng)選配項(xiàng)：
NLD-4000系統(tǒng)的選配項(xiàng)包含自動L/UL上下載(用于6”基片)
等等客戶定制選項(xiàng)
案例：6”晶圓片上的均勻性數(shù)據(jù)
ICP離子源(用于等離子增強(qiáng)的PEALD)
臭氧發(fā)生器
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