光催化廢氣處理設備催化燃燒性能特點

1、用優(yōu)質金屬鉑、鈀鍍在蜂窩陶瓷載體上作為催化劑、凈化效率高達97－99%，設備壽命長、且可再生、氣體流暢阻力小；

2、安全設施完備：阻火除塵器、泄壓孔、超溫報警等保護設施全；

3、預熱15－30分鐘全功率加熱。工作時只消耗見機功率即可，當廢氣濃度較低時，自動間歇補償加熱；

4、余熱可以返回烘道用來烘干工作，降低原烘道中消耗功率；也可供工廠其它方面熱能回用

光催化廢氣處理設備催化燃燒處理注意事項

1、廢氣成分中，不能含有下列物質;有高粘性的油脂類。如磷、鉍、砷、銻、汞、鉛、錫；高濃度的粉塵；

2、設備選型時，注明廢氣的成分、濃度及出口溫度；

3、設備安裝場所無腐蝕性氣體，并有良好的防雨措施；

4、設備所需電源為：三相交流380V頻率50Hz;

催化燃燒適用范圍

1、用于有機溶劑的凈化處理如：苯類、醇類、酯類、酚類、醚類、烷類等混合性有機廢氣；

2、適用于漆包線、機械、電機、化工、儀表、汽車、發(fā)動機、塑料、電器等行業(yè)的有機廢氣凈化；

3、適用于各種烘道、印刷油墨、電機絕緣處理等烘干流水線等。

光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物*氧化成無毒無害的產物，而傳統的高溫焚燒技術則需要在*的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要幾百的高溫。

從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑。常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點，具體研究中可根據需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。

處理原理

稀釋擴散法

原理：將有臭味地氣體通過煙囪排至大氣，或用無臭空氣稀釋，降低惡臭物質濃度以減少臭味。適用范圍：適用于處理中、低濃度的有組織排放的惡臭氣體。優(yōu)點：費用低、設備簡單。缺點：易受氣象條件限制，惡臭物質依然存在。

水吸收法

原理：利用臭氣中某些物質易溶于水的特性，使臭氣成分直接與水接觸，從而溶解于水達到脫臭目的。適用范圍：水溶性、有組織排放源的惡臭氣體。優(yōu)點：工藝簡單，管理方便，設備運轉費用低 產生二次污染，需對洗滌液進行處理。缺點：凈化效率低，應與其他技術聯合使用，對硫醇，脂肪酸等處理效果差。

曝氣式活性污泥脫臭法

原理：將惡臭物質以曝氣形式分散到含活性污泥的混和液中，通過懸浮生長的微生物降解惡臭物質 適用范圍廣。優(yōu)點：活性污泥經過馴化后，對不超過極限負荷量的惡臭成分，去除率可達99.5%以上。缺點：受到曝氣強度的限制，該法的應用還有一定局限。

多介質催化氧化工藝

原理：反應塔內裝填特制的固態(tài)填料，填料內部復配多介質催化劑。當惡臭氣體在引風機的作用下穿過填料層，與通過特制噴嘴呈發(fā)散霧狀噴出的液相復配氧化劑在固相填料表面充分接觸，并在多介質催化劑的催化作用下，惡臭氣體中的污染因子被充分分解。適用范圍：適用范圍廣，尤其適用于處理大氣量、中高濃度的廢氣，對疏水性污染物質有很好的去除率。優(yōu)點：占地小，投資低，運行成本低；管理方便，即開即用。缺點：耐沖擊負荷，不易污染物濃度及溫度變化影響，需消耗一定量的藥劑。

低溫等離子體

低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質第四態(tài)，當外加電壓達到氣體的著火電壓時，氣體分子被擊穿，產生包括電子、各種離子、原子和自由基在內的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應以達到降解污染物的目的。

低溫等離子體空氣凈化設備能夠顯著治理的污染有：VOC、惡臭氣體、異味氣體、油煙、粉塵，也可用于消毒殺菌。低溫等離子體技術是一種全新的凈化過程，不需要任何添加劑、不產生廢水、廢渣，不會導致二次污染。

廢氣處理設備