化工水處理設(shè)備-EDI設(shè)備是電滲析技術(shù)與離子交換技術(shù)的結(jié)合，通過陰離子和陽離子交換膜的選擇性滲透與離子交換樹脂的交換作用。在直流電場(chǎng)的作用下，實(shí)現(xiàn)離子遷移，實(shí)現(xiàn)水的深度除鹽。同時(shí)，水分離產(chǎn)生的氫離子和氫氧化物離子交換樹脂。因此，無需酸堿化學(xué)再生即可連續(xù)生產(chǎn)純水。

    化工水處理設(shè)備-EDI設(shè)備工作原理：

    1.RO產(chǎn)生的水在進(jìn)入EDI模塊后均勻地分布在淡水室中。

    2.在淡水室中，未從RO膜中去除的微量離子被離子交換樹脂吸附在RO膜表面。

    3.在EDI模塊兩端的電極上加直流電，驅(qū)動(dòng)淡水室中的陰離子和陽離子遷移到濃縮水室中的相應(yīng)電極以產(chǎn)生高純水。

    4.在電場(chǎng)的作用下，水分子大量電離成H+和OH，離子交換樹脂不斷再生。

    EDI進(jìn)水條件：

    水源：反滲透RO產(chǎn)水

    電導(dǎo)率：≤20μS/cm

    電導(dǎo)率：2-10μS/cm

    電導(dǎo)率：≤50Μs/cm

    PH值：6-8

    溫度：5℃-38℃

    進(jìn)水壓力：0.2-0.6MPa

    硬度：小于0.5ppm(以CaCO3計(jì))

    硅：小于0.5ppm(SiO2計(jì))