痕量低濃度氮氧化物分析儀

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更新時間：2019-03-14 11:13:17瀏覽次數(shù)：171次

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北京中恒日鑫科技有限公司

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產(chǎn)品簡介

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痕量低濃度氮氧化物分析儀是用于分析氣體組成成分的儀表，屬于流程分析儀表中的一種,是化學參數(shù)測量儀表，在很多工業(yè)生產(chǎn)過程中，氣體分析儀表的地位與壓力儀表、流量儀表等物理參數(shù)測量儀表是不相上下的，能起到控制生產(chǎn)環(huán)境、減少安全事故等重要作用;除通常用來分析氫氣、氨氣、二氧化碳、二氧化硫和低濃度可燃性氣體含量。

詳細介紹

痕量低濃度氮氧化物分析儀通過分析激光被氣體的選擇性吸收來獲得氣體的濃度。它與傳統(tǒng)紅外光譜吸收技術(shù)的不同之處在于，半導體激光光譜寬度遠小于氣體吸收譜線的展寬。因此，DLAS技術(shù)是一種高分辨率的光譜吸收技術(shù)，半導體激光穿過被測氣體的光強衰減可用朗伯-比爾（Lambert-Beer）定律表述式得出，關(guān)系式表明氣體濃度越高，對光的衰減也越大。因此，可通過測量氣體對激光的衰減來測量氣體的濃度。

痕量低濃度氮氧化物分析儀?

一臺氣體分析儀或一套氣體分析系統(tǒng)相當于一套完整的化工工藝設備，因此，氣體分析儀器系統(tǒng)工作過程就是在實現(xiàn)一系列的化工過程。若想通過氣體分析得到準確數(shù)據(jù)，就必須了解這一系列化工過程中各階段的情況及變化，認真研究并掌握其中的規(guī)律，只有這樣才能達到準確測定的目的。

DLAS技術(shù)本質(zhì)上是一種光譜吸收技術(shù)，通過分析激光被氣體的選擇性吸收來獲得氣體的濃度。它與傳統(tǒng)紅外光譜吸收技術(shù)的不同之處在于，半導體激光光譜寬度遠小于氣體吸收譜線的展寬。因此，DLAS技術(shù)是一種高分辨率的光譜吸收技術(shù)，半導體激光穿過被測氣體的光強衰減可用朗伯-比爾（Lambert-Beer）定律表述式得出，關(guān)系式表明氣體濃度越高，對光的衰減也越大。因此，可通過測量氣體對激光的衰減來測量氣體的濃度。

分析儀按照光學系統(tǒng)劃分，可分為雙光路和單光路兩種：

（1）雙光路：從兩個相同光源或一個精確分配的單光源，發(fā)出兩路彼此平行的光束，分別通過分析氣室后和參比氣室后進入檢測器。

（2）單光路：從光源發(fā)出單束紅外光，利用切光裝置將紅外光調(diào)制成不同波長的光束，輪流通過分析氣室進入檢測器。

關(guān)鍵詞：氮氧化物分析儀氣體分析儀