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常州藍(lán)陽(yáng)環(huán)保設(shè)備有限公司

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上海小型廢水處理設(shè)備

參   考   價(jià):面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào):

品       牌:其他品牌

廠商性質(zhì):生產(chǎn)商

所  在  地:常州市

更新時(shí)間:2024-03-30 16:23:57瀏覽次數(shù):1875

聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線
出水管口徑 10mm 處理水量 1000m3/h
功率 100kw 加工定制
進(jìn)水管口徑 10mm 流量計(jì)規(guī)格 100m3/min
適用范圍 制造業(yè) 外形尺寸 10
貯氣罐容積 100m3
上海小型廢水處理設(shè)備主要特點(diǎn):.其設(shè)備輕巧、外形緊湊、便于運(yùn)輸和安裝,電耗省。采用先進(jìn)技術(shù),自動(dòng)化程度高,操作方便、管理簡(jiǎn)單。停留時(shí)間短而穩(wěn)定性更高。

上海小型廢水處理設(shè)備一、如果是排水量不穩(wěn)定,那建議您按大排量計(jì)算。即采購(gòu)能夠處理50噸的。

二、價(jià)位需要根據(jù)您的水質(zhì)進(jìn)行決定,每一種類(lèi)型的污水污染程度不同,國(guó)家對(duì)每一類(lèi)型的污水要求排放標(biāo)準(zhǔn)也不同,比如普通的小區(qū)生活污水、醫(yī)療污水、養(yǎng)殖、屠宰廢水、造紙印染廢水、其他工業(yè)污水等等 ,都是有很大區(qū)別的,所以處理工藝和成本也不一樣 .設(shè)備的價(jià)格也不同.惡臭氣體的來(lái)源、組成物質(zhì)與危害

污水處理廠惡臭氣體主要來(lái)源于污水和污泥的處理單元[1],其中厭氧池是污水處理單元產(chǎn)生惡臭的主要場(chǎng)所,而污泥脫水房是污泥處理單元惡臭產(chǎn)生的主要場(chǎng)所。

污水處理工藝過(guò)程中產(chǎn)生的惡臭氣體組成物質(zhì)主要由碳、氫和硫元素組成[2],主要有氨氣、硫化氫、硫醇、VFAs、VOCs等組成。根據(jù)有關(guān)資料介紹,從成分看氨的濃度大,其次是硫化氫,而硫化氫是產(chǎn)生惡臭氣味的主要物質(zhì)之一。

高濃度的含硫以及含氮惡臭物質(zhì)會(huì)抑制硝化反應(yīng)的進(jìn)行,使污水脫氮效果變差,同時(shí)這些惡臭氣體,對(duì)污水廠金屬材料、設(shè)備和管道有一定的腐蝕性,對(duì)廠區(qū)及周邊環(huán)境會(huì)造成

污染,也會(huì)影響周?chē)用竦恼I?。甚至,臭氣中的惡臭物質(zhì),對(duì)人體呼吸、消化、心血管、內(nèi)分泌及神經(jīng)系統(tǒng)都會(huì)造成不同程度的毒害,使人體產(chǎn)生畸變、癌變。

上海小型廢水處理設(shè)備小型污水處理系統(tǒng)由多級(jí)生化接觸氧化池、電解除磷池與沉淀殺菌池組成;本發(fā)明小型污水處理系統(tǒng)污水處理工藝的特點(diǎn)為:多級(jí)生化接觸氧化池中各級(jí)生化接觸氧化池內(nèi)均加入直徑為80~130mm聚丙烯或聚乙烯多孔空心球與其內(nèi)10~15塊20mm×15mm×5mm聚氨酯共同組成的懸浮填料,懸浮填料填充比均為50%~70%;除末級(jí)生化接觸氧化池外,污水按等比例分配分別同時(shí)進(jìn)入其余各級(jí)生化接觸氧化池,曝氣量為5:1~8:1。本發(fā)明小型污水處理系統(tǒng)具有適用于小規(guī)模污水處理、污水處理效果好等特點(diǎn);本發(fā)明小型污水處理系統(tǒng)的污水處理工藝具有操作簡(jiǎn)便、污水處理效果好等特點(diǎn)。一種小型污水處理系統(tǒng),包括調(diào)節(jié)池(1),進(jìn)水泵(2),進(jìn)水管道(19),多級(jí)生化接觸氧化池(3),沉淀殺菌池(5),鼓風(fēng)機(jī)(7),多級(jí)生化接觸氧化池(3)中各級(jí)生化接觸氧化池(17)底部均設(shè)置曝氣器(8),上述曝氣器(8)與鼓風(fēng)機(jī)(7)相連的進(jìn)氣管道(20)連接,其特征是,多級(jí)生化接觸氧化池(3)為各級(jí)生化接觸氧化池(17)體積相同的三級(jí)或五級(jí)生化接觸氧化池(3),除末級(jí)生化接觸氧化池(17)外,上述多級(jí)生化接觸氧化池(3)的其余各級(jí)生化接觸氧化池(17)頂部均設(shè)置生化接觸氧化池入水口(16),上述多級(jí)生化接觸氧化池(3)中奇數(shù)級(jí)生化接觸氧化池(17)于池壁下方、偶數(shù)級(jí)生化接觸氧化池(17)于池壁上方均設(shè)置生化接觸氧化池出水口(18),除末級(jí)生化接觸氧化池(17)外,與進(jìn)水泵(2)相連的進(jìn)水管道(19)接入其余各級(jí)生化接觸氧化池入水口(16)中;在多級(jí)生化接觸氧化池(3)與沉淀殺菌池(5)間設(shè)置與各級(jí)生化接觸氧化池(17)體積相同的電解除磷池(4),電解除磷池(4)中設(shè)置二塊間距1~3cm、厚度0.5~1.0cm的鐵電極板(9),上述鐵電極板(9)面積按照每處理1m3/d污水采用0.10~0.20m2鐵電極板(9)計(jì)算,放置在小型污水處理系統(tǒng)外的直流穩(wěn)壓電源(10)與鐵電極板(9)上鐵電極板固定裝置(25)由電線(21)連接,電解除磷池(4)底部設(shè)置曝氣器(8),電解除磷池(4)底部設(shè)置的曝氣器(8)與鼓風(fēng)機(jī)(7)相連的進(jìn)氣管道(20)連接,電解除磷池入水口(18)即為末級(jí)生化接觸氧化池出水口(18),位于末級(jí)生化接觸氧化池(17)與電解除磷池(4)相鄰池壁下方,電解除磷池出水口(15)位于電解除磷池(4)與沉淀殺菌池(5)相鄰池壁上方,沉淀殺菌池入水口(15)即為電解除磷池出 口(15),沉淀殺菌池入水口(15)比沉淀殺菌池出水口(24)高出10~15cm,與各級(jí)生化接觸氧化池(17)體積相同的沉淀殺菌池(5)內(nèi)設(shè)置導(dǎo)水槽(14)與泥斗(22),導(dǎo)水槽(14)由縱向隔板(13)、沉淀殺菌池入水口(15)所在池壁、沉淀殺菌池(5)頂部及其外側(cè)池壁與導(dǎo)水槽底部(26)共同構(gòu)成,縱向隔板(13)與沉淀殺菌池入水口(15)所在池壁的水平距離為5~10cm,導(dǎo)水槽底部(26)位于沉淀殺菌池(5)高度的60~70%,縱向隔板(13)下方設(shè)置導(dǎo)水槽出水口(23),沉淀殺菌池入水口(15)下方6~9cm處、導(dǎo)水槽(14)內(nèi)設(shè)置消毒氯片儲(chǔ)槽(11),導(dǎo)水槽(14)下方設(shè)置泥斗(22),泥斗(22)上沿與導(dǎo)水槽底部(26)處于同一高度,泥斗(22)上沿兩端分別緊鄰導(dǎo)水槽出水口(23)下端與沉淀殺菌池出水口(24)所在池壁,泥斗(22)出泥位置為泥斗正中位置,沉淀殺菌池(5)下方按泥斗(22)出泥位置設(shè)置排泥口(12)。包括調(diào)節(jié)池,進(jìn)水泵,進(jìn)水管道,多級(jí)生化接觸氧化池,沉淀殺菌池,鼓風(fēng)機(jī),多級(jí)生化接觸氧化池中各級(jí)生化接觸氧化池底部均設(shè)置曝氣器,上述曝氣器與鼓風(fēng)機(jī)相連的進(jìn)氣管道連接,多級(jí)生化接觸氧化池為各級(jí)生化接觸氧化池體積相同的三級(jí)或五級(jí)生化接觸氧化池,除末級(jí)生化接觸氧化池外,上述多級(jí)生化接觸氧化池的其余各級(jí)生化接觸氧化池頂部均設(shè)置生化接觸氧化池入水口,上述多級(jí)生化接觸氧化池中奇數(shù)級(jí)生化接觸氧化池于池壁下方、偶數(shù)級(jí)生化接觸氧化池于池壁上方均設(shè)置生化接觸氧化池出水口,除末級(jí)生化接觸氧化池外,與進(jìn)水泵相連的進(jìn)水管道接入其余各級(jí)生化接觸氧化池入水口中;在多級(jí)生化接觸氧化池與沉淀殺菌池間設(shè)置與各級(jí)生化接觸氧化池體積相同的電解除磷池,電解除磷池中設(shè)置二塊間距1~3cm、厚度0.5~1.0cm的鐵電極板,上述鐵電極板面積按照每處理1m3/d污水采用0.10~0.20m2鐵電極板計(jì)算,放置在小型污水處理系統(tǒng)外的直流穩(wěn)壓電源與鐵電極板上鐵電極板固定裝置由電線連接,電解除磷池底部設(shè)置曝氣器,電解除磷池底部設(shè)置的曝氣器與鼓風(fēng)機(jī)相連的進(jìn)氣管道連接,電解除磷池入水口即為末級(jí)生化接觸氧化池出水口,位于末級(jí)生化接觸氧化池與電解除磷池相鄰池壁下方,電解除磷池出水口位于電解除磷池與沉淀殺菌池相鄰池壁上方,沉淀殺菌池入水口即為電解除磷池出水口,沉淀殺菌池入水口比沉淀殺菌池出水口高出10~15cm,與各級(jí)生化接觸氧化池體積相同的沉淀殺菌池內(nèi)設(shè)置導(dǎo)水槽與泥斗,導(dǎo)水槽由縱向隔板、沉淀殺菌池入水口所在池壁、沉淀殺菌池頂部及其外側(cè)池壁與導(dǎo)水槽底部共同構(gòu)成,縱向隔板與沉淀殺菌池入水口所在池壁的水平距離為5~10cm,導(dǎo)水槽底部位于沉淀殺菌池高度的60~70%,縱向隔板下方設(shè)置導(dǎo)水槽出水口,沉淀殺菌池入水口下方6~9cm處、導(dǎo)水槽內(nèi)設(shè)置消毒氯片儲(chǔ)槽,導(dǎo)水槽下方設(shè)置泥斗,泥斗上沿與導(dǎo)水槽底部處于同一高度,泥斗上沿兩端分別緊鄰導(dǎo)水槽出水口下端與沉淀殺菌池出水口所在池壁,

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