由于污水處理標(biāo)準(zhǔn)中對除磷脫氮的要求越來越嚴(yán)格， 氧化溝也得到了進(jìn)一步的發(fā)展。目前，研究及應(yīng)用較多的包括以下兩種類型：微孔曝氣型 2000系統(tǒng)、 3000系統(tǒng)。

微孔曝氣型  2000系統(tǒng)

   微孔曝氣型  2000系統(tǒng)采用微孔曝氣（供養(yǎng)設(shè)備為鼓風(fēng)機(jī)），微孔曝氣器可產(chǎn)生大量直徑為1mm左右的微小氣泡，這大大提高了氣泡的表面積，使得在池容積一定的情況下氧轉(zhuǎn)移總量增大。根據(jù)目前鼓風(fēng)機(jī)生產(chǎn)廠家的技術(shù)能力，池的有效水深 大可達(dá)8m，因此可根據(jù)不同的工藝要求選擇合適的水深。傳統(tǒng)氧化溝的推流是利用轉(zhuǎn)刷、轉(zhuǎn)碟或倒傘形表爆機(jī)實現(xiàn)的，其設(shè)備利用率低、動力消耗大。微孔曝氣型  2000系統(tǒng)則采用了水下推流的方式，即把潛水推進(jìn)器葉輪產(chǎn)生的推動力直接作用于水體，在起推流作用的同時又可有效防止污泥的沉降。因此，采用潛水推進(jìn)器既降低了動力消耗，又使污水得到了充分地混合。

 3000系統(tǒng)

     3000系統(tǒng)是在  2000系統(tǒng)前再加上一個生物選擇區(qū)。該生物選擇區(qū)是利用高有機(jī)負(fù)荷篩選菌種，抑制絲狀菌的生長，提高各污染物的去除率，其后的工藝原理同  2000系統(tǒng)。

     3000系統(tǒng)的較大提高表現(xiàn)在：一是增加了池深，可達(dá)7.5~8m，同心圓式，池壁共用，減少了占地面積，降低造價同時提高了耐低溫能力；而是曝氣設(shè)備的巧妙設(shè)計，曝氣機(jī)下裝導(dǎo)流筒，抽吸缺氧的混合液，采用水下推進(jìn)器解決流速問題；三是使用了*的曝氣控制器qute.四是采用一體化設(shè)計，從中心開始，包括以下環(huán)狀連續(xù)工藝單元；進(jìn)水井和用于回流活性污泥的分水器；分別由四部分組成的選擇池和厭氧池。這之外是有三個曝氣器和一個預(yù)反硝化的  2000系統(tǒng).五是圓型一體化的設(shè)計使得氧化溝不需要額外的管線，即可實現(xiàn)回流污泥在不同工藝單元的分配。

1. 結(jié)論

 氧化溝由于具有良好的除磷脫氮能力、抗擊負(fù)荷能力和運(yùn)營管理方便等優(yōu)點(diǎn)，已經(jīng)得到了廣泛的應(yīng)用。但由于科技的發(fā)展和社會的進(jìn)步，該工藝必將得到進(jìn)一步的提高。作者認(rèn)為： 氧化溝的未來研究方向主要體現(xiàn)在以下幾個方面。

1. 結(jié)合生物膜法，研究和開發(fā)生物模型 氧化溝。這樣不僅可以提高單位反應(yīng)器的微生物總量，從而提高有機(jī)負(fù)荷，而且生物膜本身具有的內(nèi)置A/O系統(tǒng)強(qiáng)化了脫氮效果。
2. 不斷提高 氧化溝中微生物的活性。例如在氧化溝中投加EM專一菌種、投加鐵鹽使微生物馴化成生物鐵、投加活性炭增強(qiáng)菌膠團(tuán)的形成并提高耐毒性沖擊等。
3. 提高 氧化溝設(shè)備性能和檢測技術(shù)。提高表曝機(jī)、水下推進(jìn)器的性能，減少維修工作量；利用DO、ORP等多目標(biāo)監(jiān)控技術(shù)及變頻技術(shù)是今后 氧化溝科學(xué)運(yùn)行的必由之路。
4. 提高 氧化溝的耐寒、耐讀性能，減少占地面積和工程造價。膜理論的應(yīng)用、深池水條件和工藝性能的研究為降低工程造價、提高耐寒耐毒性能等提供了可能的方向。

電器控制說明

污水處理設(shè)備自進(jìn)水至出水采用PLC全自動控制。具體控制內(nèi)容如下： (1)污水調(diào)節(jié)池設(shè)置液位控制裝置，高液位自動運(yùn)行；低液位停泵。

(2)風(fēng)機(jī)采用交替運(yùn)行，不間斷供氣。兩臺風(fēng)機(jī)可按要求設(shè)定自動切換間隔時間。

(3)污水處理站建議采用雙電源供電。處理工藝主要機(jī)泵均交替使用，互用互備，以達(dá)到保證正常運(yùn)行的目的。

(4)各類電器設(shè)備的啟動、關(guān)閉和切換均由可編程序控制器自動按程序?qū)嵭新?lián)動，同時在控制柜的面板上設(shè)有自動、手動轉(zhuǎn)換開關(guān)，必要時可切換成手動控制。

(5)各類電器設(shè)備均設(shè)置電路短路和過載體裝置，同時設(shè)置指示燈，顯示各電器設(shè)備的工作狀態(tài)。

六、設(shè)備間、操作間

電控柜均需設(shè)置在地面建筑內(nèi)，建議布置在污水處理主體構(gòu)筑物旁的水處理間，以利于日常操作管理和設(shè)備維護(hù)。