上海伯東代理美國進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 10: 考夫曼型離子源 Gridded 系列最小型號的離子源. 適用于集成在小型的真空設備中, 例如預清洗, 離子濺射, 離子蝕刻. 在 <1000eV 低能量, 通 Ar 氬氣時離子蝕刻的能力顯著提高.KDC 10 離子源低損傷, 寬束設計, 低成本等優(yōu)點廣泛應用在顯微鏡領域, 標準配置下 KDC 10 離子能量范圍 100 至 1200e

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KRI 考夫曼離子源 KDC 10
上海伯東代理美國進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 10: 考夫曼型離子源 Gridded 系列最小型號的離子源. 適用于集成在小型的真空設備中, 例如預清洗, 離子濺射, 離子蝕刻. 在 <1000eV 低能量, 通 Ar 氬氣時離子蝕刻的能力顯著提高.KDC 10 離子源低損傷, 寬束設計, 低成本等優(yōu)點廣泛應用在顯微鏡領域, 標準配置下 KDC 10 離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 10mA.
考夫曼離子源 KDC10
KRI 考夫曼離子源 KDC 10 技術參數(shù)

型號	KDC 10
供電	DC magnetic confinement
- 陰極燈絲	1
- 陽極電壓	0-100V DC
- 柵極直徑	1cm
中和器	燈絲
電源控制	KSC 1202
配置	-
- 陰極中和器	Filament, Sidewinder Filament 或LFN 1000
- 架構	移動或快速法蘭
- 高度	4.5'
- 直徑	1.52'
- 離子束	集中平行散設
-加工材料	金屬電介質半導體
-工藝氣體	惰性活性混合
-安裝距離	2-12"
- 自動控制	控制4種氣體

KRI 考夫曼離子源 KDC 10 應用領域
離子清洗, 顯微鏡拋光 IBP
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學鍍膜) IBAD
表面改性, 激活 SM
離子濺射沉積和多層結構 IBSD
離子蝕刻 IBE

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上海伯東: 羅先生

關鍵詞：顯微鏡