隨著現代電子技術的快速發(fā)展，電子產品已經成為人們日常生活中*的工具，其中短、小、輕、薄已經成為了電子產品的主要發(fā)展方向，這也給電子制造工藝及清洗用水標準帶來了很大的挑戰(zhàn)：非極性污染物(松香樹脂和油等)、極性污染物(助焊劑活性劑和鹽等)及顆粒狀污染物的殘留，會直接造成印制板和元器件表面漏電、短路、斷路或形成腐蝕導致失效，必然會影響電子工藝的順利實施或產品的質量和可靠性。因此，必須在工藝實施的環(huán)節(jié)中加入清洗工序。我國早在1957年制訂了電子級純水標準，至今要求電子級標準2002年標準為18. 3M Ω . cm (溫度25°C )，達到電子級超純水的理論值。

　　電子級超純水是指原水中的導電質幾乎*去除，水中不解離的膠體物質、氣體、微生物及有機物的含量降至較低的程度。常用于集成電路工業(yè)中用于半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等，此外，其他固態(tài)電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路和真空管等的制作也都要使用超純水。