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沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司


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GSL-CKJS-560-B2磁控濺射

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具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所  在  地

聯(lián)系方式：金查看聯(lián)系方式

更新時間：2020-12-18 11:57:00瀏覽次數(shù)：388次

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經(jīng)營模式：經(jīng)銷商

商鋪產(chǎn)品：980條

所在地區(qū)：遼寧沈陽市

聯(lián)系人：金 （經(jīng)理）

產(chǎn)品簡介

GSL-CKJS-560-B2磁控濺射

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品簡介：高真空濺射可用于金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點，可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。

產(chǎn)品型號

GSL-CKJS-560-B2磁控濺射

安裝條件

本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機（加注純凈水或者去離子水）

2、電：AC380V 50Hz，必須有良好接地

3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氮/氬氣（純度99.99%以上），需自備氮/氬氣氣瓶（自帶Ø10mm雙卡套接頭）及減壓閥

4、場地：設(shè)備尺寸3500×1600mm，承重1000kg以上

5、通風(fēng)裝置：需要

主要特點

1、真空度高。

2、可制備多種薄膜，金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等，應(yīng)用廣泛。

3、體積小，操作簡便。

4、清理安裝便捷。

5、控制可選一體化觸摸屏控制。

技術(shù)參數(shù)

1、主濺射室尺寸：Ø560×355mm梨形真空室

2、主濺射室真空度：5×10-6Pa

3、進樣室尺寸: Ø255×430mm

4、進樣室真空度：5×10-4Pa

5、永磁靶5套，靶材尺寸φ2″，各靶射頻與直流濺射兼容（其中1個靶可濺射鐵磁材料）

6、公轉(zhuǎn)樣品臺6個工位，5個水冷工位，1個加熱工位，加熱工溫度 600℃±1℃

7、樣品尺寸：φ1″，可放置6片

8、基片可加-200V負(fù)偏壓

9、進樣室可一次性安裝6片樣品，可對被鍍樣品進行退火處理，退火溫度 800℃±1℃

10、進樣室可對基片進行反濺清洗

11、進樣室和主濺射室之間通過磁力樣品機構(gòu)進行樣品傳遞

產(chǎn)品規(guī)格

整機尺寸：2700×900mm×2000mm。

標(biāo)準(zhǔn)配件

1

電源控制系統(tǒng)

1套

2

真空獲得系統(tǒng)

1套

3

真空測量裝置

1套

關(guān)鍵詞：減壓閥
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