半導(dǎo)體計(jì)量的兩種互補(bǔ)技術(shù)。
WLI: 白光干涉測(cè)量是一種光學(xué)技術(shù)，它可以對(duì)非常寬的區(qū)域進(jìn)行成像，速度非常快，滿足高吞吐量測(cè)量。
AFM: 原子力顯微鏡是一種掃描探針技術(shù)，即使對(duì)透明材料也能提供確的納米級(jí)分辨率測(cè)量。

WLI和AFM在視野,分辨率和速度方面結(jié)合。

WLI應(yīng)用需要比WLI 能力更高的分辨率和精度
的化學(xué)機(jī)械拋光計(jì)量和監(jiān)測(cè)
封裝
全掩模的熱點(diǎn)和缺陷檢測(cè)
晶圓級(jí)計(jì)量

AFM應(yīng)用需要更大的區(qū)域和更高的吞吐量
In-line 晶圓計(jì)量
長(zhǎng)行程CMP輪廓表征
亞埃級(jí)表面粗糙度控制
晶圓檢驗(yàn)與分析

NX-Hybrid WLI 功能
Park WLI系統(tǒng)
Park WLI支持WLI和PSI模式（PSI模式由電動(dòng)過濾器變換器 支持）
可用物鏡放大倍數(shù)：2.5X 、10X、20X、50X、100X
兩個(gè)物鏡可由電動(dòng)線性換鏡器自動(dòng)更換

WLI光學(xué)干涉測(cè)量
掃描 Mirau 物鏡高度時(shí)，由干涉引起的光強(qiáng)變化可以計(jì)算每個(gè)像素處的樣品表面高度
白光干涉測(cè)量 (WLI) 和相移干涉測(cè)量 (PSI) 是兩種常用的表面表征技術(shù)

NX-Hybrid WLI 應(yīng)用
熱點(diǎn)檢測(cè)和審查
熱點(diǎn)快速調(diào)查和熱點(diǎn)缺陷自動(dòng)審查
可以通過比較參考和目標(biāo)樣品區(qū)域的圖像來檢測(cè)圖案結(jié)構(gòu)的熱點(diǎn)
WLI 的高速“熱點(diǎn)檢測(cè)”可以快速定位缺陷位置，以進(jìn)行高分辨率 AFM 審查