Simply the best AFM for automatic defect review and surface roughness measurement
對(duì)于媒介和基體領(lǐng)域的工程師而言，識(shí)別納米級(jí)缺陷是一個(gè)非常耗時(shí)的工作。Park NX-HDM原子力顯微鏡系統(tǒng)可借助數(shù)量級(jí)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)缺陷識(shí)別、掃描和分析，從而加快缺陷的檢查過(guò)程。Park NX-HDM可與眾多的光學(xué)檢查工具直接進(jìn)行連接，這就意味著自動(dòng)缺點(diǎn)檢查通量會(huì)大幅提高。此外，Park NX-HDM擁有精確的次埃米表面粗糙度測(cè)量功能。憑借著業(yè)內(nèi)的本底噪聲和的True Non-Contact™技術(shù)，Park NX-HDM毫無(wú)疑問(wèn)是市面上表面粗糙度測(cè)量確的原子力顯微鏡。

Higher Throughput, Automatic Defect Review
對(duì)于媒介和基體領(lǐng)域的工程師而言，識(shí)別納米級(jí)缺陷是一個(gè)非常耗時(shí)的工作。Park NX-HDM原子力顯微鏡系統(tǒng)可借助數(shù)量級(jí)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)缺陷識(shí)別、掃描和分析， 從而加快缺陷的檢查過(guò)程。Park NX-HDM可與眾多的光學(xué)檢查工具直接進(jìn)行連接，這就意味著自動(dòng)缺點(diǎn)檢查通量會(huì)大幅提高。

Sub-Angstrom, Surface Roughness Measurement
業(yè)內(nèi)對(duì)于超平媒介和基體的要求越來(lái)越高，所以需要滿足設(shè)備體積不斷減小的需求。此外，Park NX-HDM擁有精確的次埃米表面粗糙度測(cè)量功能。憑借著業(yè)內(nèi)的本底噪聲和的True Non-Contact™技術(shù)，Park NX-HDM毫無(wú)疑問(wèn)是市面上表面粗糙度測(cè)量確的原子力顯微鏡。

Automatic Defect Review for Media and Substrates
Higher Throughput, Automatic Defect Review
NX-HDM的自動(dòng)缺陷檢查功能(Park ADR)可加速和改良媒介和基體缺陷的識(shí)別、掃描和分析流程。借助光學(xué)檢查工具所提供的缺陷位置圖，Park ADR可自動(dòng)定位這些位置并進(jìn)行成像（分兩步）：
(1) 縮小掃描成像，以準(zhǔn)確定位缺陷。
(2) 放大掃描成像，以獲取缺陷的細(xì)節(jié)。在真實(shí)缺陷測(cè)試中，我們可以看到相比于傳統(tǒng)的方法，該自動(dòng)功能可將缺陷檢查通量提高10倍。

Automated Search Scan & Zoom-in Scan
經(jīng)過(guò)優(yōu)化的掃描參數(shù)讓兩步式掃描更為快速：
(1) 快速的低分辨率搜尋式掃描，來(lái)準(zhǔn)確定位缺陷。
(2) 高分辨率的放大掃描，來(lái)獲取缺陷的細(xì)節(jié)。可調(diào)節(jié)的掃描尺寸和掃描速度參數(shù)能滿足用戶的所有需求。

Automatic Transfer and Alignment of Defect Maps to AFM
借助的映射算法，從自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)(APO)工具中獲取的缺陷坐標(biāo)圖可準(zhǔn)確地傳入和映射至Park NX-HDM。該技術(shù)讓全自動(dòng)高通量缺陷成像成為可能。

Map of Defect Coordinates from an Optical Inspection Tool

Accurate Sub-Angstrom Surface Roughness Measurement
Sub-Angstrom, Surface Roughness Measurement
業(yè)內(nèi)對(duì)于超平媒介和基體的要求越來(lái)越高，所以需要滿足設(shè)備體積不斷減小的需求。此外，Park NX-HDM擁有精確的次埃米表面粗糙度測(cè)量功能。憑借著業(yè)內(nèi)的本底噪聲和的True Non-Contact™技術(shù)，Park NX-HDM毫無(wú)疑問(wèn)是市面上表面粗糙度測(cè)量確的原子力顯微鏡。

Accurate AFM Scan by True Non-Contact™ Mode
True Non-Contact™ Mode

探針磨損更低=高分辨率掃描更長(zhǎng)久

無(wú)損式探針-樣品接觸=樣品變化程度最小

避免參數(shù)依賴

Tapping Imaging

探針磨損更快=掃描圖像模糊

破壞性探針-樣品接觸=樣品受損變化

高參數(shù)依賴性

Accurate AFM Topography with Low Noise Z Detector
True Sample Topography™ without piezo creep error
形貌使用了低噪聲Z軸探測(cè)器信號(hào)
寬帶寬下0.02 nm的低Z軸探測(cè)器噪聲
Park NX AFM

前沿和后沿?zé)o過(guò)沖
只需出廠前進(jìn)行一次校準(zhǔn)

Conventional AFM

Automatic Measurement Control
自動(dòng)化軟件讓NX-HDM的操作不費(fèi)吹灰之力。測(cè)量程序針對(duì)懸臂調(diào)諧、掃描速率、增益和點(diǎn)參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化，為您提供多位置分析。自動(dòng)化軟件會(huì)按照測(cè)量文件中預(yù)設(shè)的程序進(jìn)行樣品測(cè)量。Park的用戶友好型軟件界面讓用戶可靈活執(zhí)行全系統(tǒng)功能。創(chuàng)建新測(cè)量文件只需要10分鐘左右的時(shí)間，而修改現(xiàn)有的測(cè)量文件則需要不到5分鐘的時(shí)間。

Park NX-HDM具有：
自動(dòng)、半自動(dòng)和手動(dòng)模式
各自動(dòng)程序的可編輯測(cè)量方法
測(cè)量過(guò)程實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)
自動(dòng)分析所獲取的測(cè)量數(shù)據(jù)

Ionization System
離子化系統(tǒng)可有效地消除靜電電荷。由于系統(tǒng)隨時(shí)可生產(chǎn)和位置正離子和負(fù)離子之間的理想平衡，便可以穩(wěn)定地離子化帶電物體，且不會(huì)污染周邊區(qū)域。它也可以消除樣品處理過(guò)程中意外生成的靜電電荷。