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雙介質(zhì)低溫等離子

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更新時間:2022-07-15 12:24:43瀏覽次數(shù):495

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產(chǎn)品簡介

雙介質(zhì)阻擋低溫等離子廢氣設(shè)備(DDBD)為了滿足當前廢氣治理領(lǐng)域的技術(shù)革新需求

詳細介紹

雙介質(zhì)阻擋低溫等離子廢氣設(shè)備(DDBD)

 

為了滿足當前廢氣治理領(lǐng)域的技術(shù)革新需求,本公司投資引進的雙介質(zhì)阻擋低溫等離子廢氣治理技術(shù)是由海歸和中科院研究生組成的科研團隊自主研發(fā)的模塊化高壓電源和雙介質(zhì)阻擋低溫等離子模塊,涵蓋多項技術(shù),技術(shù)和性能均為國內(nèi)水平,該項技術(shù)在除臭和有機廢氣VOCs的處理凈化率上超過現(xiàn)有常規(guī)的處理技術(shù),凈化率可達到95%。

 

雙介質(zhì)阻擋低溫等離子放電模塊

 

雙介質(zhì)阻擋低溫等離子放電模塊控制電源

 

雙介質(zhì)阻擋低溫等離子放電模塊實際放電效果

本公司生產(chǎn)的雙介質(zhì)阻擋低溫等離子廢氣設(shè)備。目前產(chǎn)品已經(jīng)已經(jīng)遠銷北京、山東、安徽、西安、云南、常州、溫州、義烏、連云港、南通、上海等多個地區(qū),所應用行業(yè)比較有代表性的有:橡膠行業(yè)VOCs治理和除臭,制藥行業(yè)VOCs治理和除臭,污水處理廠和垃圾轉(zhuǎn)運站除臭,噴涂行業(yè)VOCs治理和除臭。

 

雙介質(zhì)阻擋低溫等離子設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖

 

該產(chǎn)品采用雙介質(zhì)阻擋放電技術(shù),是真正的低溫等離子技術(shù),電子能量高,密度大,并且不會產(chǎn)生火花或者電弧。在高濕度廢氣,甚至出現(xiàn)液態(tài)水的工況下,依然可以可靠的工作。采用雙介質(zhì)阻擋低溫等離子放電模塊和高壓電源而制成的成套設(shè)備,可以通過認證中心的防爆認證,可應用在石化行業(yè)等有防爆要求的行業(yè)。

 

雙介質(zhì)阻擋低溫等離子體技術(shù)應用于惡臭氣體治理,具有處理效果好,運行費用低廉、無二次污染、運行穩(wěn)定、操作管理簡便、即開即用等優(yōu)點,具體優(yōu)點如下:

1、低溫等離子除臭設(shè)備、雙介質(zhì)阻擋低溫等離子介質(zhì)阻擋放電產(chǎn)生的電子能量高,低溫等離子體密度大,可以達到常規(guī)等離子技術(shù)(電暈毛刺放電)的1500倍,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

2、雙介質(zhì)阻擋低溫等離子技術(shù)反應快,氣體通過反應區(qū)的速度可達到3-5米/秒,即達到很好的處理效果,其他技術(shù)氣體通過反應區(qū)的速度0.01米/秒都很難達到雙介質(zhì)阻擋低溫等離子的處理效果;

3、氣體通過部分,全部采用絕緣體陶瓷、石英、不銹鋼等防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了低溫等離子體技術(shù)設(shè)備腐蝕問題;其他等離子技術(shù)是氣體與電極直接接觸,電極在3個月或1年內(nèi)會造成嚴重腐蝕,即使通過的氣體沒有腐蝕性,自身所產(chǎn)生的臭氧也會把電極造成腐蝕;

4、自動化程度高,設(shè)備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,對于部分化工生產(chǎn)的不連續(xù)性,可以在生產(chǎn)時開啟,不生產(chǎn)的間隙停止運行,大量的節(jié)約能源;

5、運行成本較低,比常用的蓄熱式燃燒爐RTO節(jié)約運行費用5-10倍,每立方米氣量運行費用僅為0.3~0.9分錢,部分高濃度廢氣可以通過空氣稀釋后用雙介質(zhì)阻擋低溫等離子技術(shù)處理;

6、使用范圍廣闊,基本不受氣溫和污染物成分的影響,對惡臭異味的臭氣濃度有良好的分解作用,惡臭異味的去除率達80-98%,處理后的氣體臭氣濃度達到國家標準;

7、雙介質(zhì)阻擋低溫等離子技術(shù)處理工業(yè)廢氣技術(shù)是通過高能量等離子體對污染物的直接擊穿和直接轟擊,使分子鏈斷裂,并非污染物的轉(zhuǎn)移,不會產(chǎn)生二次污染;

8、重要特點:以非甲烷總烴為例,用色譜法檢測,非甲烷總烴去除率也許只有45%,但惡臭異味的去除率達93%。這是因為非甲烷總烴經(jīng)過處理后,部分分子變成小分子,用色譜法檢測時,依然表現(xiàn)為非甲烷總烴;惡臭異味的去除率高,表明實際已經(jīng)分解了90%以上的污染物質(zhì),因為分解后的物質(zhì)也有部分異味;

9、雙介質(zhì)阻擋低溫等離子技術(shù)是真正的中國創(chuàng)造,歐美及亞洲國家正在引進此項技術(shù),解決二惡英污染問題,雙介質(zhì)阻擋低溫等離子技術(shù)對二惡英這個世界難題,已經(jīng)是成熟工藝,因為二惡英類物質(zhì)含有氯,多數(shù)是親電子基團,更容易被電子轟擊。

10、雙介質(zhì)阻擋低溫等離子設(shè)備采用模塊化設(shè)計,可根據(jù)用戶實際需要自由拼接,方便安裝。

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