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美國GESUEZ蘇伊士EDI膜堆制備超純水ediSuezEDI模塊型號E-CELLMK-3MK-3

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產(chǎn)品型號MK-3

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更新時間：2024-10-29 08:03:29瀏覽次數(shù)：86次

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  GE膜蘇伊士SUEZ反滲透納濾

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深圳市禹安環(huán)境科技有限公司

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產(chǎn)品簡介

EDI膜堆制備超純水ediSuezEDI模塊型號E-CELLMK-3EDI模塊MK-3美國GEEDI模塊美國GEMK-3超純水工業(yè)用去電離子安經(jīng)理一三三九二八五零六一、EDI膜堆制備超純水ediSuezEDI模塊型號E-CELLMK-3簡介MK-3pharmHT*高進水溫度、：45℃

詳細介紹

EDI膜堆制備超純水ediSuezEDI模塊型號E-CELLMK-3

EDI模塊MK-3美國GEEDI模塊美國GEMK-3超純水工業(yè)用去電離子
安經(jīng)理一三三九二八五零六

一、EDI膜堆制備超純水ediSuezEDI模塊型號E-CELLMK-3簡介
MK-3 pharm HT
*高進水溫度、：45℃；
消毒溫度、：80-85℃；
*大進水壓力：7bar；
正常流量時壓降范圍：1.4-2.1bar；
產(chǎn)品水流量：1.6~4.6m3/h。

二、EDI膜堆制備超純水ediSuezEDI模塊型號E-CELLMK-3用于：

為電力、半導(dǎo)體、化工、冶金和一般工業(yè)等行業(yè)提供超純水；

連續(xù)地生產(chǎn)混床產(chǎn)水級質(zhì)量的超純水；
無需對模塊內(nèi)的混床樹脂進行酸堿再生；
保證不漏水；
無需鹽水注入和濃水循環(huán)，簡化了設(shè)計
三、GEEDIMK-3pharmHT高溫?zé)崴綞DI膜堆超純水edi模塊說明和用途

GE高純水制取設(shè)備EDI模塊GEEDI模塊單模塊3m3/hMK-3EDI模塊電源超純水工業(yè)用去電離子為電去離子（EDI）模塊，利用電流對反滲透產(chǎn)水進行去離子和拋光處理。E-Cell-3X產(chǎn)水為超純水，適用于當(dāng)今對水質(zhì)要求苛刻的行業(yè)。

三、GEEDIMK-3pharmHT高溫?zé)崴綞DI膜堆超純水edi模塊質(zhì)量保證

具有CESUEZ、UL和CSA標(biāo)識；
由通過ISO 9001：2000認證的工廠制造

四、GEEDIMK-3pharmHT高溫?zé)崴綞DI膜堆超純水edi模塊規(guī)格型號

EDI模塊規(guī)格齊全，單個模塊產(chǎn)水量從 10 L/h到10m3/h。數(shù)十個模塊并聯(lián)可以產(chǎn)生一個幾乎無限規(guī)模的系統(tǒng)。在適當(dāng)操作條件下運行，模塊可以生產(chǎn)出電阻率15—18 M的高純水。
微型：10 L/h，30 L/h，60 L/h，100 L/h，200 L/h
標(biāo)準(zhǔn)型：0．5 m3/h，1m3/h，2 m3/h，3 m3/h
大型：6 m3/h，8 m3/h，10 m3/h